EMS550 離子濺射鍍膜儀
| 參考價(jià) | ￥ 11 |
| 訂貨量 | ≥1 件 |
- 公司名稱 桑戈國際貿(mào)易（上海）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) EMS550
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2021/2/3 11:02:10
- 訪問次數(shù) 3187
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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油 |
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離子濺射鍍膜儀
什么是離子濺射鍍膜？在陽極與陰極之間使用合適的氣體（常用的是氬氣）和電壓，當(dāng)出現(xiàn)輝光放電時(shí)，陰極材料在氣體離子的轟擊下將侵蝕目標(biāo)材料，其結(jié)果是濺射出來的原子（陰極材料）將在樣本（通常樣本固定于陽極上）表面形成一層薄膜，均勻分布在樣本的表面，這個(gè)過程就叫離子濺射鍍膜。
陰極材料通常使用金，習(xí)慣稱之為金靶，故離子濺射鍍膜儀常常又稱噴金儀、離子濺射鍍金儀、離子濺射噴金儀等等。
EMS公司提供系列產(chǎn)品，型號(hào)有EMS500、EMS550、EMS575X、EMS575T、EMS650、EMS650T、EMS675、EMS3000等等，下面我們將一一列出傳品的詳細(xì)參數(shù)供大家選擇使用。
一、EMS550和EMS500
EMS 550具有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，可傾斜，適合各種樣品。參數(shù)可預(yù)設(shè)，全自動(dòng)控制保證獲得準(zhǔn)確的鍍層厚度。 低電壓濺射、冷濺射、細(xì)顆粒等功能的使用，大大提高了工作效率。腔室直徑為165 mm（6英寸），非常方便裝載及移走樣品。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶（可選）?？蛇x靶材包括金/鈀，鉑/鈀和鉑。 各種功能都集中設(shè)計(jì)在儀表板上，使用方便，滿足不同學(xué)科的用戶使用要求。 濺射參數(shù)可預(yù)設(shè)，包括氣體放氣針閥（此閥為電磁閥），一旦設(shè)置，就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖，系統(tǒng)可選配EMS250鍍碳附件。
EMS 550本儀器為全自動(dòng)操作，可控制獨(dú)立的真空泵。EMS500是EMS550的手動(dòng)版本，其樣品臺(tái)不帶自動(dòng)旋轉(zhuǎn)功能，其它參數(shù)與550*相同。下圖為EMS550的外觀圖片：
性能特征： · 旋轉(zhuǎn)且可傾斜樣品臺(tái) · 高質(zhì)量鍍層厚度（2nm 金膜）. 準(zhǔn)確的可重復(fù)性能 均勻沉積厚度 復(fù)合樣本固定器 · 全自動(dòng)控制 低耗冷卻系統(tǒng)，無需冷卻樣本及樣品臺(tái) 低壓濺射 20nm（或20埃） 微電子控制 聚碳酸脂安全殼體
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二、EMS575 HIGH RESOLUTION SPUTTER COATER（EMS575X和EMS575T） EMS-575T是一款渦輪泵雙頭高分辨率噴金儀。EMS-575T樣本放置在旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)上（the rotary stage），蓋好蓋子（the chamber lid），按下啟動(dòng)按鈕，渦輪分子泵開始加速，5秒鐘后，機(jī)械泵開始啟動(dòng)，同時(shí)十秒氣體排空程序啟動(dòng)，兩個(gè)泵同時(shí)運(yùn)行確保一個(gè)高真空。當(dāng)渦輪泵加速，它的速度由柱狀圖來標(biāo)示，到達(dá)速度的一半時(shí)，真空計(jì)扭至自動(dòng)狀態(tài)。當(dāng)腔內(nèi)氣體壓降為10-4 mbar，排氣開始，腔內(nèi)氣壓維持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之間，排氣的蕞后階段，靶材按照預(yù)訂鍍膜時(shí)間開始噴鍍。鍍膜需要兩種不同金屬的，不需要關(guān)泵，繼續(xù)濺射另一種金屬。噴鍍完成后，兩個(gè)泵停止，排氣閥排氣。 儀器質(zhì)保期2年。模塊化的單元結(jié)構(gòu)使得儀器維護(hù)方便，摘掉問題模塊，換上無問題的模塊，儀器即可很好的運(yùn)行，一點(diǎn)不會(huì)耽誤實(shí)驗(yàn)進(jìn)程。 性能特征： · 全自動(dòng)一鍵式操作，微處理器數(shù)字控制方式，可預(yù)設(shè)參數(shù) · LCD屏實(shí)時(shí)顯示狀態(tài)參數(shù) · 質(zhì)保期：標(biāo)準(zhǔn)保修期為一年 · 高分辨率精細(xì)鍍層（不超過0.5nm的鉻顆粒大小） · 薄金屬鍍層，典型5nm厚 · 渦輪分子泵 · Peltier冷卻雙濺射頭，無需冷卻水 · 雙濺射頭：一次真空條件下，可順序?yàn)R射兩種不同的材料，對(duì)于需要依次噴鍍兩種金屬的樣品特別適用 · 磁控濺射靶源設(shè)計(jì) · 旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵為備用泵，機(jī)械泵為外部安裝式
儀器參數(shù)：
EMS 650配套裝有直徑60mm、厚度0.1mm的金靶（用戶可以選擇其它材質(zhì)的靶材）；面板式控制，蕞佳的人性化設(shè)計(jì)；濺射參數(shù)可預(yù)先設(shè)置，包括控制排氣的電磁閥（自動(dòng)控制），可以獲得準(zhǔn)確的可重復(fù)的鍍膜厚度；濺射頭互鎖，EMS 650和EMS 250鍍碳配件通用；EMS 650可控制獨(dú)立的真空泵。EMS 650T是在EMS 650基礎(chǔ)上加裝了一個(gè)功率為60L/秒的渦輪增壓泵，能夠獲得更高更潔凈的真空。
性能特征： 全自動(dòng)控制 低能冷卻系統(tǒng)（（功率是6W） 低電壓濺射（100V，DC;每分鐘溫度升高不到2°C） 鍍膜厚度準(zhǔn)確（2nm金粒） 準(zhǔn)確的可重復(fù)性 鍍膜厚度20nm或200A（掃描電鏡） 微電子控制 三個(gè)靶臺(tái)同時(shí)濺射 聚碳酸脂安全外殼 產(chǎn)品參數(shù)：
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