L200N/L200ND NIKON日本尼康L200N/L200ND檢查顯微鏡

NIKON日本尼康L200N/L200ND檢查顯微鏡

LSI檢查顯微鏡

 超高的基本性能之外，更大大提升了觀察性、操作性、耐久性

可以觀察的zui大硅片直徑為200mm

觀察倍率15X～3000X（視目鏡和物鏡的組合而定）

        ECLIPSE L200N 反射照明           

     ECLIPSE L200ND 反射.透射照明

觀察性能提升

擴大檢查范圍的反射熒光觀察（L200ND）新

反射照明觀察，除可進行明場、暗場、微分干涉觀察之外，更可進行UV（365nm)激發(fā)的反射熒光觀察。

對于半導體感光薄膜的殘渣、有機EL顯示面板的觀察發(fā)揮了很大的威力。

使用物鏡：CFI LU PLAN FLUOR 10X

 硅片的明場觀察       暗場觀察           微分干涉觀察      反射熒光觀察

反射熒光觀察用的電動水銀光纖光源[INTENSILIGHT](L200ND)

 光源采用了預定心電動水銀光纖光源[INTENSILIGHT]。更換燈泡時不用進行燈絲調心和對焦。

燈箱可與主機分離設置，以降低光源發(fā)熱對顯微鏡的影響。6段式的調光機能和快門機能，實現(xiàn)了良好的操作性。

約2000小時超長使用壽命的燈泡大幅降低了使用成本。

 操作性能提升、理環(huán)保

比12V100W更亮的高亮度12V50W鹵素燈 新

采用了12V50W的[LV-LH50PC預定心燈箱]，與12V100W相比，耗電量削減了約一半，又可達到與其同等甚至更亮的亮度。

燈絲位置經過優(yōu)化設計，且燈箱里有反光鏡，使照明視場均勻，并提高照明效率。特別是用到50倍以的高倍物鏡時，能得到比12V100W亮約20%的觀察圖象。

更環(huán)保，也能防止因熱量而造成的焦面偏移的干擾。

抗污染的防靜電涂層 新

主機、載物臺、鏡筒均涂有消靜電涂層。為了提高抗污染能力，防止工件因靜電感應而受損，從而提高成品率。

可調節(jié)到*位置進行觀察的正立調傾式三目鏡筒

視場數(shù)25的超大視場，可任意設定0～30°的觀察角度。根據(jù)使用者體型和觀察姿勢的不同，可將三目鏡筒調節(jié)到*位置松隨意的進行觀察。

 載物臺微調手輪無需移動工件

不用移動工件，載物臺微調手柄位置固定于顯微鏡主機操作部旁。

所有的操作部都盡在手邊，移動載物臺、對焦等顯微操作，不用抬手，只需動動手腕就可輕松執(zhí)行。

耐久性比以前高3倍的電動通用物鏡轉換器 新

zui多可以安裝到6個物鏡。和偏心較小的物鏡結合使用，用高倍物鏡觀察時切換倍率也很少會出現(xiàn)圖象閃動現(xiàn)象。

從低倍到高倍的自由切換更穩(wěn)定?？紤]到使用者，在旋轉物鏡轉換器時會自動切斷照明光路，避免光直接照射使用者眼晴。

對焦目標

對焦目標可移入光路，這一特性對于裸硅片之類的低對比度工件的正確對焦成為方便。

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顯微鏡操作部位集中于底座前部

操作手輪、按鍵等，都集中于底座前部，更便于使用。一看就能快捷高效的進行顯微操作。大大減輕了長時間觀察的疲勞感。

獲取*圖象，提升與顯微鏡用數(shù)碼相機的聯(lián)動力

 實現(xiàn)了從觀察到圖象拍攝、分析的*整體化

  ·尼康開發(fā)提供了便于使用的顯微鏡、數(shù)碼相機和軟件一體化的高機能設備系統(tǒng)。

  ·支持從設定*觀察條件，到數(shù)碼拍攝→處理→分析的整個流程。

用于LSI檢查顯微鏡 ECLIPSE L200N

Wafer Loader NWL200系列    

 與ECLIPSE L200N相結合，對應的硅片檢查需要。

 運用獨立的尼康技術，穩(wěn)定傳輸超薄型100um硅片。