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布魯克Inspire紅外原子力顯微鏡
- 公司名稱(chēng) 布魯克(北京)科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2016/3/30 11:03:31
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 563
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zui高分辨率的納米級(jí)化學(xué)和性質(zhì)成像
Bruker’s Inspire系統(tǒng)在常規(guī)AFM成像速度下可獲得納米級(jí)的紅外吸收和反射圖像,不受間接手工操作的逼近的限制,或?yàn)橛脩?hù)增加使用的繁瑣。該系統(tǒng)實(shí)時(shí)地將原子級(jí)的納米力學(xué)成像與分辨率達(dá)10納米的紅外sSNOM 時(shí)空光譜成像以及*的納米電學(xué)測(cè)量相關(guān)聯(lián)。
簡(jiǎn)而言之,Inspire重新定義了原子力顯微鏡的應(yīng)用。
Inspire 的出現(xiàn),*次將zui高分辨率納米尺度下的化學(xué)和性質(zhì)成像與*的AFM技術(shù)和的AFM性能結(jié)合:
采用直接光學(xué)逼近方法獲得zui高分辨率的納米化學(xué)性質(zhì)表征和等離子基元效應(yīng)
布魯克公司*的PeakForce Tapping技術(shù)可提供zui為精準(zhǔn)的定量納米機(jī)械性質(zhì)的成像
全新的PeakForce IR技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)以往技術(shù)難以實(shí)現(xiàn)的納米化學(xué)性質(zhì)的成像
利用ScanAsyst自動(dòng)優(yōu)化圖像和集成的sSNOM光學(xué)系統(tǒng)可快速的獲得數(shù)據(jù)
的成像技術(shù)——操作簡(jiǎn)單
Inspire 使用sSNOM直接光學(xué)的反射和吸收成像以獲得zui高的空間分辨率和靈敏度的納米化學(xué)信息。以往需多年的專(zhuān)業(yè)技術(shù)和數(shù)周的搭建時(shí)間獲得的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),Inspire的集成光學(xué)系統(tǒng)可以更快更簡(jiǎn)單的實(shí)現(xiàn)。PeakForce Tapping(峰值力輕敲)技術(shù)及智能成像模式保證了即使是初學(xué)者也可以在幾分鐘之內(nèi)獲得專(zhuān)家級(jí)的AFM成像質(zhì)量。
PeakForce Tapping技術(shù)的強(qiáng)力支撐
布魯克公司*的PeakForce Tapping技術(shù)采用精確地控制每個(gè)像素下的力曲線(xiàn),能夠降低成像時(shí)的作用力,這樣可以保護(hù)探針,同時(shí)zui高分辨率的形貌圖和納米尺度性質(zhì)的AFM圖像。Inspire利用了布魯克*的PeakForce Tapping技術(shù)為紅外散射近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡(sSNOM),提供了全新的方法,擴(kuò)展了它在大量樣品的納米尺度的化學(xué)成像。PeakForce IR技術(shù)是一種通過(guò)交錯(cuò)sSNOM信號(hào)采集和PeakForce Tapping的反饋,在同一
時(shí)間獲得全部的組合信息的全新技術(shù)。
新材料的化學(xué)成像
PeakForce IR技術(shù)超越了傳統(tǒng)的AFM,sSONM,或光熱方法下實(shí)現(xiàn)的納米級(jí)成像的范圍。Inspire 還可以鑒定材料類(lèi)型,以及檢測(cè)靈敏度達(dá)單分子層級(jí)的膜厚變化。
紅外納米表征技術(shù)可以擴(kuò)展至:
粉末和高分子刷等接觸模式和輕敲模式都很難成功測(cè)量的樣品
橡膠體的成分,金屬材料,半導(dǎo)體材料,陶瓷和其他在光熱方法下不能測(cè)量的材料
石墨烯等離子體,電子結(jié)構(gòu)和化學(xué)修飾的樣品
為新的發(fā)現(xiàn)直接提供相關(guān)聯(lián)的信息
擁有PeakForce IR技術(shù)的Inspire通過(guò)具有所有優(yōu)勢(shì)的散射sSNOM技術(shù)提供的掃描探針的紅外反射和吸收成像,使獲得化學(xué)、材料和等離子基元的zui高空間分辨率的成像成為可能。該技術(shù)還可以與PeakForce QNM聯(lián)用實(shí)時(shí)的進(jìn)行定量納米機(jī)械模量和粘附力的成像。與PeakForce IR的聯(lián)用,PeakForce KPFM 實(shí)現(xiàn)了在10nm分辨率水平下的毫伏級(jí)的定量的功函數(shù)成像,PeakForce TUNA實(shí)現(xiàn)了即使在柔軟和易碎樣品上無(wú)法在接觸模式下獲得的導(dǎo)電圖像。
生產(chǎn)力的新標(biāo)準(zhǔn)
PeakForce IR利用布魯克*的智能成像模式技術(shù),通過(guò)自動(dòng)成像優(yōu)化,能夠更簡(jiǎn)單、更快速獲得*的AFM圖像。結(jié)合帶有由光學(xué)場(chǎng)圖引導(dǎo)的point-and-click光學(xué)校準(zhǔn)的快速光路設(shè)置集成光學(xué)系統(tǒng),使得實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)備時(shí)間減少到幾分鐘。高性能的AFM掃描器確??梢栽趻呙杷俾蔬_(dá)10Hz時(shí)也獲得高分辨率的紅外成像。對(duì)于任何對(duì)散射sSNOM技術(shù)、納米級(jí)石墨烯研究感興趣的科學(xué)家,或者需要得到高分辨化學(xué)性質(zhì)成像的研究者來(lái)說(shuō),擁有PeakForce IR技術(shù)的Inspire是您的選擇。
技術(shù)參數(shù)
光路系統(tǒng)
集成紅外散射SNOM系統(tǒng):
包含必需的光學(xué)器件, 激光和檢測(cè)器;
高質(zhì)量的寬頻光學(xué)元件;
低噪音, 液氮冷卻的探測(cè)器;
精確的干涉儀控制系統(tǒng);
低噪聲量子級(jí)聯(lián)激光器光源;
優(yōu)化的近場(chǎng)采集和激發(fā)光路
AFM掃描頭
可支持應(yīng)用模塊的AFM掃描頭(可支持所有選擇模式)
掃描器
125μm x 125μm (X-Y) x 5μm( Z range); 可以根據(jù)需求選擇其他掃描器
控制器
NanoScopeV 控制臺(tái), 配v9.0 Nanoscope實(shí)時(shí)控制軟件;
NanoScope v1.5 分析軟件;
Windows 7 操作系統(tǒng)
模式
掃描探針紅外模式:
IR sSNOM 在 TappingMode and PeakForce IR模式下運(yùn)行
常規(guī)成像模式:
智能成像模式
峰值力輕敲模式
輕敲模式
接觸模式
扭轉(zhuǎn)共振模式
掃描隧道顯微鏡
摩擦力顯微鏡
相位成像
可選擇的材料表征模式:
PeakForce KPFM——納米級(jí)熱分析
導(dǎo)電原子力顯微鏡——液態(tài)成像
PeakForce TUNA——電化學(xué)原子力顯微鏡
PeakForce QNM——納米壓痕
PeakForce Capture——壓電力顯微鏡
力曲線(xiàn)陣列 ——電場(chǎng)力和磁力顯微鏡