CM2000 原料藥研磨分散機(jī),原料藥濕法膠體磨

原料藥研磨分散機(jī),原料藥濕法膠體磨，原料藥濕法粉碎機(jī)，原料藥超高速濕法粉碎機(jī)，原料藥濕法研磨機(jī)，原料藥濕法研磨分散機(jī)

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

原料藥濕法粉碎機(jī)，又被成為原料藥膠磨機(jī)，或者原料藥研磨分散機(jī)，特別適合于需要研磨、分散、均質(zhì)一步到位的物料。IKN濕法粉碎機(jī)是將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭間隙可調(diào)。

原料藥濕法粉碎機(jī)，為醫(yī)藥衛(wèi)生級濕法研磨設(shè)備，標(biāo)準(zhǔn)配置所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼。    

 特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷。

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原料藥濕法粉碎機(jī)是由膠磨機(jī),分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品

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*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結(jié)構(gòu)，相較溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。分散頭的轉(zhuǎn)子定子結(jié)構(gòu)符合流體力學(xué)的線性結(jié)構(gòu)。在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)流體是切線方向甩開。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

濕法粉碎機(jī)技術(shù)優(yōu)勢：

1、只進(jìn)行閥門切換，泵和磨連續(xù)運(yùn)行，真正實(shí)現(xiàn)不間斷生產(chǎn) 。

2、可據(jù)用戶需要加工定制，所有型號均預(yù)留有外接接口，可擴(kuò)展其功能及產(chǎn)量，既可固定式建廠生產(chǎn)也可移動(dòng)式現(xiàn)場生產(chǎn)。

3、有手動(dòng)/自動(dòng)一體和手動(dòng)兩種控制模式。

4、可生產(chǎn)超高含量的改性乳化瀝青（SBS含量≥4%，瀝青含量≥65%）。

5、可生產(chǎn)超高含量的改性瀝青（SBS含量≥12%）。

6、現(xiàn)場指導(dǎo)安裝、操作，提供*化、Zuixian進(jìn)的生產(chǎn)工藝和配方。

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