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普析通用 XD6多晶衍射儀

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產(chǎn)品標(biāo)簽

X射線衍射儀

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廣州貝拓科學(xué)技術(shù)有限公司成立于2010年8月,是國(guó)家高新技術(shù)企業(yè),廣州科技小巨人企業(yè),并在廣東股權(quán)交易中心成功掛牌(股權(quán)代碼:892081),通過(guò)ISO9001-2015質(zhì)量體系認(rèn)證和知識(shí)產(chǎn)權(quán)貫標(biāo)認(rèn)定體系,擁有近30項(xiàng)國(guó)家磚利。貝拓科學(xué)一直從事光譜分析儀器領(lǐng)域,自主研發(fā)儀器有光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x,拉曼光譜儀,表界面張力儀,白光干涉膜厚分析儀,陣列式紫外可見(jiàn)分光光度計(jì),積分球式透反射率測(cè)試儀等。具備光學(xué)設(shè)計(jì)、機(jī)械設(shè)計(jì)、軟件編寫(xiě)和算法編寫(xiě)核心能力,和中山大學(xué)、廣州大學(xué)、華南師范大學(xué)有緊密的合作關(guān)系,并且是廣州大學(xué)物理與光電學(xué)院的長(zhǎng)期實(shí)習(xí)基地。貝拓科學(xué)所研發(fā)生產(chǎn)的產(chǎn)品定位在國(guó)內(nèi)高水平,未來(lái)面向市場(chǎng)。

前臺(tái).jpg

貝拓科學(xué)陪伴著科學(xué)家一起探索未知事件,“Touch the future”作為我們的口號(hào),貝拓科學(xué)尊重以嚴(yán)謹(jǐn)?shù)目茖W(xué)理論為指導(dǎo),為科學(xué)家提供有力的科研工具。我們默默堅(jiān)持做前沿分析儀器的搬運(yùn)工,陪伴科學(xué)家不斷成長(zhǎng)。我們很榮幸作為一些有儀器生產(chǎn)廠家,例如:日本Hitachi,德國(guó)WITec,德國(guó)Bruker,英國(guó)OXFORD,美國(guó)ThermoFisher,Ametek旗下輸力強(qiáng)和普林斯頓,以及中國(guó)臺(tái)灣OtO等大電子儀器廠家的代理,一起為中國(guó)的科學(xué)家提供專(zhuān)業(yè)的服務(wù)。

 

我們的宗旨是為科學(xué)學(xué)提供更專(zhuān)業(yè),更貼心的服務(wù)。

我們的優(yōu)勢(shì)和專(zhuān)注點(diǎn)集中于材料測(cè)試方面,為了普惠科研工作者,我們還提供測(cè)試服務(wù),其中包括材料的結(jié)構(gòu)、元素分布、表面特征、物理化學(xué)特性以及光學(xué)、電學(xué)特性的分析。

材料分析領(lǐng)域代理品牌:

OXFORD(牛津)、FEI(賽默飛)、KeySight(前安捷倫納米部)、STOE、AMETEK(阿美特克)、TESCAN(泰思肯)、LEICA、KRUSS、BEL、HITACHI(日立)、OTO(中國(guó)臺(tái)灣超微光學(xué))、WITec(威泰克)、BRUKER(布魯克)、普析、徠卡、本原納米等。

 

 

 

 

 

接觸角測(cè)量?jī)x、在線測(cè)厚儀、光學(xué)膜厚儀、紅外光譜儀、拉曼成像光譜儀、拉曼電鏡、低溫恒溫器、掃描探針顯微鏡/原子力、納米壓痕劃痕儀、橢偏儀、熱分析、差示掃描熱儀

價(jià)格區(qū)間 20萬(wàn)-50萬(wàn) 儀器種類(lèi) 探測(cè)器及其他設(shè)備
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,包裝/造紙/印刷,紡織/印染

普析通用 XD6多晶衍射儀

 

產(chǎn)品介紹

XD6型多晶X射線衍射儀用于晶體物質(zhì)結(jié)構(gòu)定性定量分析。該產(chǎn)品在XD3基礎(chǔ)上設(shè)計(jì),測(cè)角儀掃描半徑可在150~285mm范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)。該功能使得用戶(hù)可以在儀器測(cè)角分辨率和測(cè)試衍射線強(qiáng)度之間進(jìn)行均衡選擇,自行設(shè)定需要的試驗(yàn)條件,滿(mǎn)足不同情況試驗(yàn)需求。為了提高實(shí)驗(yàn)效率,XD6提高了快速轉(zhuǎn)動(dòng)速度,達(dá)到1800°/min。

普析通用 XD6多晶衍射儀
主要特點(diǎn)
  • 結(jié)構(gòu)新,采用*進(jìn)的立式測(cè)角儀結(jié)構(gòu),更加方便的樣品放置方式,對(duì)于操作、維護(hù)的工作力度大為簡(jiǎn)化,更加直觀的使用,便于清理實(shí)驗(yàn)后的樣品臺(tái)。

  • 采用細(xì)分驅(qū)動(dòng)電源技術(shù),精度高,重現(xiàn)性達(dá)到0.0005°、測(cè)量重復(fù)性0.001°、最小步進(jìn)角度0.0001°,掃描半徑連續(xù)可調(diào)

  • 進(jìn)口NaI閃爍晶體計(jì)數(shù)探測(cè)器,分辨率及長(zhǎng)期使用穩(wěn)定性好;

  • X射線管套采用整體銅棒材加工定位精度、射線防護(hù)性更好;采用了轉(zhuǎn)輪式快門(mén),開(kāi)關(guān)速度更快,故障率更低,射線阻斷性更好,機(jī)柜外輻射劑量低于0.2μSv/h(國(guó)標(biāo)規(guī)定要求低于2.5μSv/h);

  • X射線光源的數(shù)字控制電路作了進(jìn)一步的改善,X光機(jī)的工作功率*由計(jì)算機(jī)遙控設(shè)定。高壓與管流的加載過(guò)程受微電腦控制自動(dòng)操作,使用更加簡(jiǎn)單,運(yùn)行更加可靠;

  • 中文視窗操作界面,全新改版的PDP衍射數(shù)據(jù)處理軟件包。在數(shù)據(jù)輸出多樣性方面作了重大改進(jìn)。

 
技術(shù)參數(shù)
 

配置名稱(chēng)

XD6

X射線管

(Cu靶國(guó)產(chǎn))

種類(lèi)

Cu靶,NF型(其它靶材可選)

功率

2.0kW

焦點(diǎn)

1.0×10mm2

X射線發(fā)生器

最大輸出

4KW

X光管電壓

15~60kV,1kV /Step

X光管電流

6~80mA,1mA /Step

管電壓、管電流穩(wěn)定度

≤0.01%(電源低壓浮動(dòng)10%)

測(cè)角儀

測(cè)角儀結(jié)構(gòu)

θs-2θd(XD2)  θs-θd(XD3)

測(cè)角儀掃描半徑

150~285mm連續(xù)可調(diào)

掃描角度范圍

-30~80°(θs)

-30~160°(θd)

工作方式

連續(xù)掃描、定時(shí)步進(jìn)掃描、定數(shù)步進(jìn)掃描

連續(xù)掃描速度

0.125~120°/min

高轉(zhuǎn)速可達(dá)到

1800°/min

2θ角重復(fù)精度

≤0.0005°

最小步進(jìn)角度

0.0001°

測(cè)量準(zhǔn)確度

≤0.001°

發(fā)散狹縫(DS)

1/6°、1/2°、1°、2°

防散射狹縫(SS)

1/2°、1°、2°

接收狹縫(RS)

0.1,0.15,0.3,0.45,0.6,1,2mm

調(diào)整狹縫

0.02mm

檢測(cè)器

計(jì)數(shù)器

晶體類(lèi)型

NaI

脈沖幅度分析器(HV/PHA)

輸出高壓0~1000V,穩(wěn)定性≤0.01%(8h)

機(jī)柜

機(jī)柜尺寸(mm)

1200(長(zhǎng))×400(寬)×1850(高)

整機(jī)重量(kg)

500

觀察窗(mm)

600(高)×400(寬)×10(厚)鉛玻璃

X射線泄露量

≤0.1μSv/h(未扣除天然本底)

安全措施

門(mén)聯(lián)鎖保護(hù)(門(mén)到位置,光閘才打開(kāi),產(chǎn)生X射線)

濾波器

Ni濾片

對(duì)應(yīng)Cu靶

石墨彎晶單色器

反射效率η≥28%

綜合指標(biāo)

整機(jī)綜合穩(wěn)定度

≤0.3%

 

 



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