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GVC-2000 自動磁控離子濺射儀

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 上海禾早電子科技有限公司
  • 品牌
  • 型號 GVC-2000
  • 產(chǎn)地 上海
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2019/12/23 0:19:40
  • 訪問次數(shù) 1669

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上海禾早電子科技有限公司作為國內(nèi)專業(yè)的科研儀器械服務(wù)商之一。通過多年在材料領(lǐng)域的實踐與應(yīng)用,我們在微觀形貌,全自動直流離子濺射儀,納米力學(xué)性能,電子束感應(yīng)電流,冷凍傳輸系統(tǒng)等領(lǐng)域為國內(nèi)外企業(yè)在產(chǎn)品開發(fā)上積累豐富的實踐經(jīng)驗。

離子濺射儀,磁控離子濺射儀,主動減震臺

靶材材質(zhì) 金、鉑、銀、銅、鉻、銥等 靶材尺寸 57mm
產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 5萬-10萬
濺射氣體 空氣、氬氣 控制方式 自動
樣品倉尺寸 130×120mm 樣品臺尺寸 65mm
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),地礦,能源,電子

  磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。

在電子顯微鏡領(lǐng)域內(nèi),往往需要對樣品進行表面鍍膜從而使樣品表面成像或者圖像質(zhì)量得到改善。在樣品表面覆蓋一層導(dǎo)電的金屬薄膜可以消除荷電反應(yīng),降低電子束對樣品表面的熱量損傷,可以提高SEM對樣品進行形貌觀察,所需要的二次電子信號量。噴金后可以提供二次電子產(chǎn)額,提升信號強度和圖像質(zhì)量。

  濺射電流12mA,濺射時間10s 濺射電流10mA,濺射時間20s   濺射電流12mA,濺射時間30s   濺射電流10mA,濺射時間60s

 

離子濺射儀系統(tǒng)特點:

○ 儀器采用微處理器控制,自動化程度高精確控制、易于操作;

○ 低電壓、較好真空度下的實現(xiàn)大電流濺射,可濺射金、銀、銅、鉑等常用金屬靶材;

○ 金膜顆粒絕大多數(shù)<10nm,顆粒更細(xì),均勻度更好,附著力更強,觀測效果更佳;

○ 靶材利用率更高,磁控濺射靶材利用率為直流濺射的2倍,為用戶節(jié)約靶材費用.

○ 電子和負(fù)離子被磁場束縛在靶材附近,鍍膜過程中基本沒有溫升,適用溫度敏感性樣品;

○ 采用微處理器控制,擴展性能好,可實時顯示真空度、濺射電流、濺射時間、設(shè)備運行時間、靶材使用時間等,方便了解設(shè)備情況,具備過流、真空保護功能,安全可靠;

○ 內(nèi)置用戶使用向?qū)Ш驼f明書,方便用戶 操作;內(nèi)置膜厚估算公式,便于用戶了 解離子濺射儀工作狀態(tài);

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