日立分析儀器OES系列直讀光譜儀|OE750

日立分析儀器OES系列直讀光譜儀|OE750

由于復(fù)雜的供應(yīng)鏈，以及作為基礎(chǔ)材料使用的廢舊金屬數(shù)量的增加，鑄造廠(chǎng)和金屬制造商在控制熔體中的雜質(zhì)和痕量元素時(shí)，面臨著更多的壓力。新型OE750型直讀光譜儀特具性能水平。它涵蓋金屬中所有元素的光譜，并實(shí)現(xiàn)對(duì)某些元素的低檢出限。因此，此款分析儀具備價(jià)格高昂的同類(lèi)儀器所能提供的功能水平，可為眾多鑄造廠(chǎng)和金屬制造商提供you質(zhì)分析。

日立分析儀器OE750直讀光譜儀實(shí)現(xiàn)高分辨率和寬動(dòng)態(tài)范圍要?dú)w功于采用了*CMOS探測(cè)器技術(shù)的革命性新光學(xué)理念。其中有四項(xiàng)zhuan利正處于申請(qǐng)狀態(tài)。因此，這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長(zhǎng)范圍；這意味著該分析儀能測(cè)量金屬中ppm級(jí)別的所有元素。這對(duì)于滿(mǎn)足當(dāng)今嚴(yán)格的金屬規(guī)格分析至關(guān)重要，該分析儀可以滿(mǎn)足新的ASTM E415標(biāo)準(zhǔn)中關(guān)于碳鋼和低合金鋼的試驗(yàn)方法的要求。

日立分析儀器OE750直讀光譜儀是鋁鑄件的理想光譜儀，因?yàn)樗梢詼y(cè)定亞共晶和過(guò)共晶鋁硅合金中含量極低的磷。它可以分析銻、鉍、鍶和鈉，以及雜質(zhì)和痕量元素，從而確保這些元素能夠被控制在鋁熔體中，以?xún)?yōu)化結(jié)構(gòu)改造。創(chuàng)新性光學(xué)設(shè)計(jì)能實(shí)現(xiàn)更短的啟動(dòng)時(shí)間，因?yàn)楣鈱W(xué)系統(tǒng)的體積相對(duì)較小。這有助于那些需要在多點(diǎn)測(cè)量驗(yàn)證熔體質(zhì)量的工廠(chǎng)實(shí)現(xiàn)高批量生產(chǎn)。

除了新的光學(xué)設(shè)計(jì)之外，OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術(shù)特性。它有一個(gè)新的密封火花臺(tái)，具有優(yōu)化層流設(shè)計(jì)，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并大大降低維護(hù)要求。帶有低壓氬氣吹掃的*中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運(yùn)行時(shí)間。這使得OE750具有高可靠性和低運(yùn)行成本。

除創(chuàng)新性硬件技術(shù)外，新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如，它包括日立牌號(hào)數(shù)據(jù)庫(kù)，該數(shù)據(jù)庫(kù)包含來(lái)自69個(gè)國(guó)家的339,000多種材料的1,200多萬(wàn)條記錄和標(biāo)準(zhǔn)，減少了人工查閱牌號(hào)目錄的時(shí)間和潛在錯(cuò)誤?？蛇x的爐料校正軟件會(huì)自動(dòng)計(jì)算添加至熔體中的正確材料量，使其符合規(guī)范。

日立OES產(chǎn)品業(yè)務(wù)開(kāi)發(fā)經(jīng)理Wilhelm Sanders表示：“在過(guò)去，鑄造廠(chǎng)和金屬加工企業(yè)在購(gòu)買(mǎi)儀器時(shí)，不得不在高分析性能和可接受價(jià)格范圍之間作出選擇?，F(xiàn)在有了新型OE750，他們無(wú)需想出折中方案了。OE750能憑借一套可使用的解決方案提供全面的金屬分析。”

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