KZSD2000 液相直接剝離法制備納米黑磷分散設(shè)備

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（洽談：1-7-3-6-8-3-4-7-9-6-0）

（shear forKZe）、摩擦力或沖擊力（impaKZtforKZe）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。 分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒*被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

黑磷具有正交結(jié)構(gòu)且是反應(yīng)活性低的磷同素異形體。其晶格是一個(gè)相互鏈接的六元環(huán)，每個(gè)原子都與其他三個(gè)原子相連 。黑磷在常溫常壓下是一種熱力學(xué)穩(wěn)定的磷的同素異形體，因此黑磷難以制備，一般是通過(guò)將白磷在高壓條件下(12 000 atm) 加熱制得。黑磷在外觀、性能和結(jié)構(gòu)上都很像石墨，呈現(xiàn)黑色、片狀，并能導(dǎo)電，鏈接原子呈褶皺的片狀。在層狀黑磷結(jié)構(gòu)中的聲子、光子和電子表現(xiàn)出高度的各向異性，在電子薄膜和紅外線(xiàn)光電子技術(shù)上有重大潛在應(yīng)用價(jià)值。在黑磷中光吸收對(duì)光偏振、薄膜厚度和摻雜十分敏感。黑磷光電晶體管也表現(xiàn)出在紅外和可見(jiàn)光中的高光譜檢測(cè)。黑磷與石墨的相似之處還包括可剝離的可能性，形成亞磷，一種具有優(yōu)良電子轉(zhuǎn)移性能的類(lèi)石墨材料,剝離的黑磷暴露在空氣和水中時(shí)會(huì)被氧化，在真空中加熱到400 ℃ 時(shí)升華。這種高質(zhì)量、層數(shù)少的黑磷納米片可以通過(guò)液相剝離制備。

液相直接剝離法制備黑磷研磨分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組成。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

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KZSD2000系列的線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。 黑磷研磨設(shè)備采用德國(guó)*的高速研磨分散技術(shù)，通過(guò)超高轉(zhuǎn)速（高可達(dá)14000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配KZm+8sf，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線(xiàn)速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。

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