SUNDI-575 單流體加熱制冷裝置使用注意事項

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置， 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

單流體加熱制冷裝置使用注意事項

單流體加熱制冷裝置使用注意事項

　　單流體加熱制冷裝置的整個液體循環(huán)是密閉的，帶有膨脹容器，膨脹容器和液體循環(huán)是絕熱的，并不參與液體循環(huán)，只是機械的連接，不管液體循環(huán)的溫度是高溫還是低溫，膨脹容器中的介質(zhì)都低于60度。整個液體循環(huán)也是密閉的系統(tǒng)，可做到低溫時沒有水汽的吸收，高溫時沒有油霧的產(chǎn)生。

　　　　1、在使用單流體加熱制冷裝置之前在槽內(nèi)應加入液體介質(zhì)(純水，酒精，防凍液也可)，介質(zhì)液面應沒過槽內(nèi)制冷盤管并低于工作臺20mm為宜;

　　2、電源：220V50Hz，電源功率應大于儀器的總功率，電源必須有良好“接地”裝置;

　　3、避免酸堿類的物質(zhì)進入槽內(nèi)腐蝕盤管以及內(nèi)膽;儀器應安置于干燥通風處，儀器周圍300mm內(nèi)無障礙物;

　　4、液體外循環(huán)時，客戶應特別注意引出管連接處的牢固性，嚴防脫落，以免液體漏出;

　　5、經(jīng)常注意觀察槽內(nèi)液面高低，當液面過低時，應及時添加液體介質(zhì);使用完畢，所有開關置于關閉狀態(tài)，切斷電源;

　　6、當單流體加熱制冷裝置工作溫度較低時，應注意不要開啟上蓋，手勿進入槽內(nèi)，以防凍傷;

　　7、儀器應做好經(jīng)常性清潔工作，長久不用，清空槽內(nèi)的介質(zhì)，并且擦拭干凈，保持工作臺面和操作面板的整潔。