Park XE-PPL 聚合物筆印刷

聚合物筆印刷 

Polymer Pen Lithography (PPL)聚合物筆印刷是新發(fā)展起來的圖案化方法，結(jié)合了微接觸印刷(uCP)和蘸筆印刷（DPL）的優(yōu)點(diǎn)，可以實(shí)現(xiàn)低消耗、柔性的分子印刷，可能使得納米圖案化領(lǐng)域發(fā)生變革。 PPL是基于無懸臂的掃描探針印刷技術(shù)，無需掩膜版即可在超平方厘米的區(qū)域內(nèi)，利用彈性體的筆尖在多種材料和基底上打印10nm 到90nm 范圍內(nèi)光斑尺寸的數(shù)字化圖案。
當(dāng)鋒利的筆尖接觸到基質(zhì)，墨水被傳遞到接觸點(diǎn)。PPL是一種可以直接拼寫的技術(shù)，相對(duì)于典型打印技術(shù)可以更好的地生產(chǎn)復(fù)雜的圖案，并且可以研究超材料結(jié)構(gòu)和器件的光電性質(zhì)。利用這種技術(shù)，可以制備由蛋白質(zhì)等軟物質(zhì)組成的結(jié)構(gòu)陣列，在生命科學(xué)領(lǐng)域有著潛在的用途。

Park XE-PPL：

解耦無弓型彎曲掃描器，使聚合物筆陣列均勻接觸，當(dāng)我們使用該系統(tǒng)掃描相當(dāng)平整的硅晶圓時(shí)，100um和400um的運(yùn)動(dòng)范圍，曲率分別小于2nm和10nm。

電動(dòng)二維傾斜平臺(tái)，聚合物筆陣列的電動(dòng)調(diào)平，XY傾斜角度分辨率為5urad(0.0003°),XY傾斜角度范圍為±3度。

掃描結(jié)果可以減少依賴掃描位置，無需軟件處理

提供寬廣的光學(xué)視圖，分辨率<1um,可顯示1mm×0.75mm視圖且可以移動(dòng)1cm×1cm,所以可以監(jiān)測(cè)所有筆陣列區(qū)域

Z軸的長(zhǎng)移動(dòng)范圍 (25um)，可以更好的控制接觸力，而且可制作圖案的尺寸范圍也很大（50nm-25un）

聚合物筆印刷應(yīng)用

掃描探針嵌段共聚物印刷 (SPBCL)

光束筆印刷 (BPL)

硬尖軟彈簧印刷 (HSL)

多重模式的蛋白質(zhì)陣列

材料科學(xué)與技術(shù);納米粒子圖案化，多重納米粒子陣列，集成電路

生物和藥物學(xué)：蛋白質(zhì)，抗體和DNA納米陣列，可用于藥物篩選，醫(yī)學(xué)診斷，生物傳感器和生物芯片的研究