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KT-Z1650CVD 鄭科探小型熱蒸發(fā)鍍膜儀

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真空探針臺(tái),小型蒸鍍儀,真空加熱腔體,氣體配比器,石英管封口機(jī)

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 1-5萬(wàn)
應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,電子,綜合 功率 ≤1200W
擋板類型 電控 真空度 機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa

鄭科探小型熱蒸發(fā)鍍膜儀

通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率,可對(duì)大部分金屬(金,銀,銅,鉻,鎳等)和有機(jī)物進(jìn)行均勻蒸發(fā)沉積。真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。

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主要特點(diǎn)/優(yōu)勢(shì):

     玻璃鐘罩真空腔室,最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察;

     復(fù)合分子泵和直聯(lián)旋片泵,大抽速準(zhǔn)無(wú)油真空系統(tǒng)(分子泵抽速≥400L/S);

     兩組水冷式蒸發(fā)電極,可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì);

     專業(yè)真空蒸發(fā)電源,數(shù)顯工作電流和電壓,恒流輸出;

     可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;

     襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;

     可調(diào)速旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)使薄膜更均勻

     可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機(jī)物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;

  7寸顯示器定時(shí)定點(diǎn)調(diào)節(jié)電流,達(dá)到控制功率效果

  具有記憶儲(chǔ)存功能,直接調(diào)出已儲(chǔ)存的數(shù)據(jù)進(jìn)行鍍膜達(dá)到同樣工藝效果

  配置了靶臺(tái)擋板,可手動(dòng)調(diào)節(jié)或自動(dòng)調(diào)節(jié)擋板,及時(shí)遮擋樣品,保證樣品效果

鄭科探小型熱蒸發(fā)鍍膜儀

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