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PLUTO-MH 國產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 上海沛沅儀器設(shè)備有限公司
  • 品牌
  • 型號 PLUTO-MH
  • 產(chǎn)地 上海市康橋東路1159弄91號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/12/16 13:48:47
  • 訪問次數(shù) 5987

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上海沛沅儀器是一家集等離子體技術(shù)設(shè)計、制造、產(chǎn)品開發(fā)、銷售與服務(wù)于一體的技術(shù)型企業(yè),公司致力于提供專業(yè)的等離子表面處理系統(tǒng),比如等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī),等離子刻蝕機(jī),實驗室等離子處理機(jī)等,向用戶提供國內(nèi)等離子表面處理設(shè)備和優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務(wù)。

公司技術(shù)團(tuán)隊67%以上具備碩士或碩士以上學(xué)位,公司由長期從事等離子體應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)、多次參與國家重大科學(xué)工程研究的專家和產(chǎn)業(yè)化專家聯(lián)合創(chuàng)建,提供一系列等離子體表面處理系統(tǒng)、等離子體刻蝕系統(tǒng)、常壓等離子清洗設(shè)備等,并與中科院上海應(yīng)用物理研究所,復(fù)旦大學(xué),中國科技大學(xué),上??萍即髮W(xué),上海交通大學(xué)等建立了密切的技術(shù)合作交流關(guān)系。

 

公司的愿景是成為等離子體應(yīng)用領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)供應(yīng)企業(yè),用科研的沉淀和應(yīng)用的創(chuàng)新,為中國的制造業(yè)崛起和化戰(zhàn)略貢獻(xiàn)一份力量。

 

 

 

 

等離子清洗機(jī),真空等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī),等離子表面處理機(jī),等離子刻蝕機(jī),實驗室等離子清洗機(jī),小型等離子清洗機(jī),大氣等離子清洗機(jī),等離子鍍膜機(jī)

國產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)

 

  PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)特點:
 
  1.針對于對等離子體處理有嚴(yán)苛要求的場合中使用
 
  2.等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,兼顧物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)
 
  3.采用500W功率電源,自動阻抗匹配,高功率射頻發(fā)生器可應(yīng)對各種實驗要求,保障高能量密度和高處理效率
 
  4.高精度真空度控制,適應(yīng)各種處理需求
 
  5.316不銹鋼腔體(或者6061鋁合金),全不銹鋼管路和連接件,適用各種氣體(包含腐蝕性氣體)
 
  6.4.3寸工業(yè)級觸摸屏,軟件操作方便,多種參數(shù)設(shè)置和工藝組合處理模式
 
  7.可增加多種配件,涂覆鍍膜,電極溫度控制,等離子體強(qiáng)度控制,等離子體化學(xué)反應(yīng)等功能(如有特殊應(yīng)用,請咨詢銷售人員)
 
  8.根據(jù)用戶需求,提供對應(yīng)等離子體處理方案和定制特殊用途設(shè)備
 
  PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)參數(shù):
 
  真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L
 
  電極:兩個自適應(yīng)平板電極,材質(zhì)T6061鋁合金(可提供特氟龍包覆無孔平板電極,適合需要雙面處理樣品)
 
  電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)(可反轉(zhuǎn))
 
  等離子體發(fā)生器:RF射頻發(fā)生器,頻率:13.56MHz
 
  功率:0-500W連續(xù)可調(diào),自動阻抗匹配,精度1W
 
  氣體控制:針式氣體流量閥,標(biāo)配1路氣體,全不銹鋼管道和連接件
 
  控制方式:4.3寸工業(yè)控制觸摸屏
 
  控制軟件功能:界面顯示實時工作狀態(tài),
 
  可顯示設(shè)置值與實際值,便于實時控制。
 
  可自由設(shè)置等離子功率,通入氣體時間
 
  多級操作權(quán)限,多種工藝參數(shù)組合控制,
 
  全手動控制和全自動控制可選
 
  保護(hù)裝置:一鍵急停保護(hù)按鈕
 
  (如需其他功能,請咨詢銷售人員)
 
國產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)

          PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域:
 
  配置不同模塊,拓展不同應(yīng)用
 
  加熱電極模塊-溫度可控,可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性
 
  沉積鍍膜模塊,改變表面特性:
 
  沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性
 
  沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性
 
  沉積含有羥基的材料,提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果
 
  感應(yīng)耦合模塊-感應(yīng)耦合等離子體裝置
 
  氣體混合裝置
 
  可以根據(jù)可以要求進(jìn)行混氣設(shè)計
 
  氣體純化和反應(yīng)
 
  氣體純化和使用等離子體與相關(guān)材料進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)


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