QBT-I 雙腔室高真空高速蒸鍍系統(tǒng)

一、雙腔室高真空高速蒸鍍系統(tǒng)核心參數(shù)：  

價(jià)格區(qū)間：150萬(wàn)-200萬(wàn)  

儀器種類(lèi)：熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)  

產(chǎn)地類(lèi)別：國(guó)產(chǎn)  

應(yīng)用領(lǐng)域：微電子學(xué)  

基片尺寸：6寸（可定制）  

靶材：銦單質(zhì)  

基片溫度范圍：-10-40℃  

成膜厚度均勻性：<3%  

極限真空：極限真空UltimatePressure<3E-8Torr  

二、高速蒸鍍系統(tǒng)產(chǎn)品詳情：  

上下雙腔,集表面處理與蒸發(fā)鍍膜為一體,高效可靠的Indium蒸鍍助手。  

三、廈門(mén)韞茂科技有限公司為您提供QBT-I雙腔室高真空高速蒸鍍系統(tǒng)的參數(shù)、價(jià)格、型號(hào)、原理等信息，QBT-I雙產(chǎn)地為福建、品牌為韞茂，型號(hào)為QBT-I，價(jià)格為150萬(wàn)-200萬(wàn)RMB，更多相關(guān)信息可咨詢，公司客服電話7*24小時(shí)為您服務(wù)。  

四、廈門(mén)韞茂科技有限公司是一家以納米級(jí)表面成膜和刻蝕技術(shù)為核心的高新技術(shù)企業(yè)，面向量子科學(xué)，*材料，半導(dǎo)體，超導(dǎo)等領(lǐng)域?yàn)榭蛻籼峁┓轿坏募夹g(shù)解決方案，幫助客戶更高效的推動(dòng)技術(shù)的探索與發(fā)展，公司形成以UHV超高真空鍍膜裝備，ALD原子層鍍膜系統(tǒng)、半導(dǎo)體專(zhuān)用鍍膜設(shè)備為核心的產(chǎn)品矩陣，助力中國(guó)的高科技技術(shù)和產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。  

五、技術(shù)參數(shù)：

六、測(cè)試結(jié)果：