S-G-X-S1200 真空高溫爐

　　一、概述

　　真空高溫爐是一種高溫反應(yīng)器，主要用于熱處理、熔煉、制備、燒結(jié)等。通常由爐體、加熱器、真空系統(tǒng)、氣體流動(dòng)系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、監(jiān)測(cè)系統(tǒng)等組成。此爐具有高溫、真空、微觀控制、無(wú)污染等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于化工、材料、生命科學(xué)和航天等領(lǐng)域。本文將介紹真空高溫爐的技術(shù)知識(shí)，包括爐體、加熱方式、真空系統(tǒng)、氣體流動(dòng)控制、溫度控制以及爐體結(jié)構(gòu)等。

　　二、爐體

　　爐體是真空高溫爐的主要部分，它通常由爐體殼、爐膛和加熱元件組成。

　?。ㄒ唬t體殼

　　爐體殼是爐體的外殼，通常使用高溫合金鋼制成，耐高溫、不易變形。爐體殼的壁厚度應(yīng)能承受爐內(nèi)的壓力差，以保證真空度不受影響。爐體殼還應(yīng)具有良好的散熱性能，以避免過(guò)熱或爐體失穩(wěn)。

　?。ǘt膛

　　爐膛是爐體的加熱區(qū)域，通常由高溫材料制成，如鉬、石墨、陶瓷等。這些材料都具有高溫強(qiáng)度、熱膨脹系數(shù)小等特點(diǎn)。爐膛的內(nèi)部應(yīng)平整光滑、無(wú)毛刺、無(wú)裂縫等缺陷，以保證加熱的均勻性和穩(wěn)定性。同時(shí)，爐膛的內(nèi)部表面還應(yīng)具有良好的耐腐蝕性能，以便進(jìn)行各種化學(xué)反應(yīng)。

　?。ㄈ┘訜嵩?/p>

　　加熱元件是爐體的主要加熱部分，它能夠?qū)㈦娔苻D(zhuǎn)換為熱能，將爐膛加熱到設(shè)定溫度。通常使用的加熱元件有電阻絲、電熱板、電加熱管等。其中，電阻絲是應(yīng)用泛的一種，它具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、容易制造、功率調(diào)節(jié)范圍廣等優(yōu)點(diǎn)，但是使用壽命較短。電熱板具有熱慣性小、加熱速率快等特點(diǎn)，但是成本較高。電加熱管具有高效率、能量消耗少等優(yōu)點(diǎn)，但是維護(hù)成本較高。

　　三、加熱方式

　　真空高溫爐的加熱方式主要分為輻射加熱、對(duì)流加熱和輻射對(duì)流復(fù)合加熱三種。

　?。ㄒ唬┹椛浼訜?/p>

　　輻射加熱是指利用能夠產(chǎn)生輻射的加熱元件，將輻射能直接照射到被加熱物體上，使其加熱。這種加熱方式具有加熱速度快、表面溫度均勻等優(yōu)點(diǎn)，但是由于被加熱物體長(zhǎng)時(shí)間處于高溫狀況下，容易導(dǎo)致結(jié)構(gòu)變形和氧化等問(wèn)題。

　?。ǘ?duì)流加熱

　　對(duì)流加熱是指通過(guò)氣流或液流將熱量傳遞給被加熱物體，使其加熱。這種加熱方式具有加熱效率高、能耗低等優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)也可以實(shí)現(xiàn)對(duì)被加熱物體局部加熱。但是由于對(duì)流傳熱需要介質(zhì)傳遞熱量，因此加熱速度較慢。

　　（三）輻射對(duì)流復(fù)合加熱

　　輻射對(duì)流復(fù)合加熱是指將輻射加熱和對(duì)流加熱相結(jié)合，充分利用兩種加熱方式的優(yōu)點(diǎn)，減少缺點(diǎn)。該加熱方式具有加熱速度快、加熱均勻、能耗低等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于高溫反應(yīng)器中。

　　四、真空系統(tǒng)

　　真空系統(tǒng)是真空高溫爐的核心部分，它可以維持爐體內(nèi)部的真空狀態(tài)，使被加熱物體免受空氣、氧化和污染等。真空系統(tǒng)通常包括機(jī)械泵、分子泵、閥門(mén)、真空儀器等。

　?。ㄒ唬C(jī)械泵

　　機(jī)械泵是真空系統(tǒng)中的一種重要設(shè)備，它可以通過(guò)機(jī)械運(yùn)動(dòng)將氣體抽出爐體，維持爐內(nèi)的真空狀態(tài)。機(jī)械泵可以分為旋轉(zhuǎn)翼泵、滑動(dòng)翼泵、游離干式泵等多種類(lèi)型。

　?。ǘ┓肿颖?/p>

　　分子泵是一種高真空泵，它可以將氣體抽出至$10^{-9}$Pa的超高真空狀態(tài)。分子泵利用分子的碰撞與反彈的特性，強(qiáng)制將氣體分子推向一端，從而實(shí)現(xiàn)在大氣壓力下的抽氣作用。

　?。ㄈ┱婵諆x器

　　真空儀器通常用于檢測(cè)爐體內(nèi)部的真空度，包括熱電偶真空計(jì)、離子計(jì)、擴(kuò)散泵等。熱電偶真空計(jì)可用于檢測(cè)$10^{-3}$至$10^{-10}$Pa范圍內(nèi)的真空度，離子計(jì)可用于檢測(cè)$10^{-6}$至$10^{-10}$Pa范圍內(nèi)的真空度，擴(kuò)散泵可用于在低壓力下將氣體排出真空室。

　　五、氣體流動(dòng)控制

　　氣體流動(dòng)控制是指控制氣體在爐內(nèi)的流動(dòng)速度和方向，以實(shí)現(xiàn)氣體的加注和排放。氣體流動(dòng)控制包括氣體進(jìn)出口、流量計(jì)、溫度計(jì)、壓力控制器等。

　?。ㄒ唬怏w進(jìn)出口

　　氣體進(jìn)出口通常位于爐體中部或底部，可以通過(guò)閥門(mén)控制氣體的進(jìn)出。氣體進(jìn)出口還可以與流量計(jì)等設(shè)備連接起來(lái)，以實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體流量的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。

　　（二）流量計(jì)

　　流量計(jì)是氣體流動(dòng)控制中的重要設(shè)備，它可以對(duì)氣體流量進(jìn)行精確測(cè)量和控制。流量計(jì)分為質(zhì)量流量計(jì)和體積流量計(jì)，可以根據(jù)需要選擇不同類(lèi)型的流量計(jì)。

　?。ㄈ囟扔?jì)

　　溫度計(jì)用于檢測(cè)氣體的溫度，以便實(shí)現(xiàn)溫度的控制和調(diào)節(jié)。溫度計(jì)包括熱電偶、熱電阻等，可以根據(jù)需要選擇不同類(lèi)型的溫度計(jì)。

　?。ㄋ模毫刂破?/p>

　　壓力控制器用于控制爐體內(nèi)部的氣體壓力，以便將氣體保持在所需的壓力范圍內(nèi)。壓力控制器通常由壓力傳感器、自動(dòng)控制器、閥門(mén)等組成，可以自動(dòng)控制氣體的加注和排放。

　　六、溫度控制

　　高溫反應(yīng)器中的溫度控制是實(shí)現(xiàn)反應(yīng)過(guò)程的關(guān)鍵之一，它可以控制反應(yīng)的速率、選擇性和產(chǎn)物分布等。溫度控制主要分為一次控制和多點(diǎn)控制兩種。

　　（一）一次控制

　　一次控制是指只使用一個(gè)溫度傳感器和控制系統(tǒng)來(lái)控制整個(gè)爐體的溫度。這種控制方式簡(jiǎn)單易行，但是無(wú)法保證整個(gè)爐體內(nèi)部溫度的均勻性。

　?。ǘ┒帱c(diǎn)控制

　　多點(diǎn)控制是指在爐體內(nèi)部分別安裝多個(gè)溫度傳感器，并使用專門(mén)的控制系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)控制。這種控制方式可以實(shí)現(xiàn)對(duì)爐體內(nèi)部不同區(qū)域的溫度進(jìn)行獨(dú)立控制，從而保證反應(yīng)的均勻性和可重復(fù)性。

　　七、爐體結(jié)構(gòu)

　　爐體結(jié)構(gòu)主要包括開(kāi)放式爐體和封閉式爐體兩種。

　?。ㄒ唬╅_(kāi)放式爐體

　　開(kāi)放式爐體是指爐膛與外界直接相連，氣體可以自由進(jìn)出，通常用于氧化、還原和催化反應(yīng)等。該爐體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，加工和維護(hù)成本較低，但是氧化問(wèn)題比較嚴(yán)重。

　　（二）封閉式爐體

　　封閉式爐體是指爐體與外界隔離，可以通過(guò)氣體進(jìn)出口控制氣體流動(dòng)。封閉式爐體通常用于高溫下劇烈反應(yīng)或易揮發(fā)物質(zhì)的加熱，防止氧化和污染。該爐體結(jié)構(gòu)較復(fù)雜，加工和維護(hù)成本較高。

　　八、總結(jié)

　　真空高溫爐是一種高溫反應(yīng)器，具有高溫、真空、微觀控制、無(wú)污染等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于化工、材料、生命科學(xué)和航天等領(lǐng)域。其技術(shù)知識(shí)主要包括爐體、加熱方式、真空系統(tǒng)、氣體流動(dòng)控制、溫度控制以及爐體結(jié)構(gòu)等，不同應(yīng)用場(chǎng)合可以根據(jù)具體需求選擇不同的加熱方式和溫度控制方式。

真空高溫爐參數(shù)：