化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備>PECVD-601/801/1201 化學(xué)氣相沉積(PECVD)
PECVD-601/801/1201 化學(xué)氣相沉積(PECVD)
- 公司名稱 北京中科復(fù)華科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 PECVD-601/801/1201
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/4/7 9:40:41
- 訪問次數(shù) 144
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納米圖形發(fā)生器,離子束刻蝕/反應(yīng)離子刻蝕/感應(yīng)耦合等離子刻蝕 磁控濺射/氣相沉積/電子束蒸發(fā)鍍膜、ALD/MBE/MOCVD 光刻機(jī)、去膠設(shè)備等
應(yīng)用方向:科研與教學(xué)
產(chǎn)品優(yōu)勢: 高性能薄膜制備
產(chǎn)品配置:
★樣片數(shù)量及尺寸:1片Ф6英寸
★沉積材料:包括并不限于硅基(Si)薄膜、碳基(C)薄膜、硅鍺合金(SiGe)、鎢硅合金(WSi2)、W、SiC。
★沉積腔體:高真空系統(tǒng)
★沉積不均勻性:±3%-±6%
★沉積速率:20-600nm/min(視具體材料與工藝)
★工作臺:可升降,高度可調(diào)
★加熱:常規(guī)加熱,可選高溫加熱
★電源配置:射頻;直流偏壓
★氣路數(shù)量與種類:標(biāo)配4路氣路 或 用戶選配
★光學(xué)性能監(jiān)測:可選配橢偏儀在線監(jiān)測系統(tǒng)
★漸變折射率薄膜制備:可選配快速流量變化與控制系統(tǒng)
★操作模式:全自動+半自動控制
類似產(chǎn)品:帶預(yù)真空室(PECVD-8100)