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SENTECH SI 591 等離子刻蝕系統(tǒng)RIE

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
  • 品牌 SENTECH
  • 型號 SENTECH SI 591
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2024/9/4 17:31:13
  • 訪問次數(shù) 247
產(chǎn)品標簽

RIE等離子刻蝕SENTECH

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設(shè)備、半導體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述:

SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)具有負載鎖定功能,是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。具有出色的工藝可重復性和等離子蝕刻工藝靈活性,這得益于真空負載鎖定和由計算機控制的等離子體蝕刻工藝條件。靈活性、模塊化和小尺寸是 SENTECH SI 591 compact 的設(shè)計特點??梢匝b載直徑達 200 mm 的樣品和載體。該系統(tǒng)可以配置為穿墻操作或具有多種選項的小占地面積。

2. 主要功能與優(yōu)勢:

流程靈活性

SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)有助于大量基于氯和氟的等離子體蝕刻工藝。

占地面積小,模塊化程度高

該系統(tǒng)可以配置為單個反應(yīng)器,也可以配置為具有盒到盒裝載的集群工具。單反應(yīng)器的配置是在系統(tǒng)上方有一個負載鎖,以小化占地面積,或者有一個負載鎖,用于穿墻安裝。

3. SENTECH控制軟件

SENTECH 等離子蝕刻工具包括用戶友好的強大軟件,帶有 GUI、參數(shù)窗口、配方編輯器、數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

等離子蝕刻系統(tǒng)具有負載鎖定功能,是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。具有出色的工藝可重復性和等離子蝕刻工藝靈活性,這得益于真空負載鎖定和由計算機控制的等離子體蝕刻工藝條件。靈活性、模塊化和小尺寸是 SENTECH SI 591 compact 的設(shè)計特點??梢匝b載直徑達 200 mm 的樣品和載體。該系統(tǒng)可以配置為穿墻操作或具有多種選項的小占地面積。

 



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