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NEXUS IBD 離子束沉積設(shè)備

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌 Veeco
  • 型號(hào) NEXUS IBD
  • 產(chǎn)地 美國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間 2024/9/6 9:27:40
  • 訪問(wèn)次數(shù) 243
產(chǎn)品標(biāo)簽

薄膜沉積離子束沉積

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1.產(chǎn)品概述:

NEXUS IBD是由VEECO研發(fā)的第三代NEXUS® 離子束沉積 (IBD),適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積。

2.產(chǎn)品原理:

離子束輔助沉積的原理是在離子束的作用下,將氣態(tài)或液態(tài)物質(zhì)引導(dǎo)到材料表面,通過(guò)物理或化學(xué)反應(yīng),形成固態(tài)薄膜。 離子束輔助沉積具有沉積溫度低、薄膜質(zhì)量高、可控制性好等優(yōu)點(diǎn),因此在光電、電子、能源等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

3.產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

數(shù)據(jù)存儲(chǔ)制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積 (IBD) 系統(tǒng)大幅提高 80Gb/in2 傳感器的產(chǎn)量,并滿足未來(lái) TFMH 設(shè)備制造的需求。

支持各種設(shè)備,從當(dāng)?shù)?/span> CIP 到高 CPP 設(shè)備

MRAM 應(yīng)用以及 GMR 和 TMR 薄膜磁頭的理想選擇

改進(jìn)了所有準(zhǔn)直沉積應(yīng)用的 CD 控制

通過(guò)沉積羽流的對(duì)稱到達(dá)獲得更銳利的起飛角度

平臺(tái)易于與 PVD、IBE 和其他技術(shù)集成






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