1403 美國 Nonsequitur 離子槍 真空

美國 Nonsequitur 離子槍 真空 1403

美國 Nonsequitur 離子槍 真空 1403

高亮度電子沖擊源，可最大限度地去除塊狀材料

發(fā)射調(diào)節(jié)轟擊提供穩(wěn)定的離子電流，前面板可調(diào)節(jié)動態(tài)范圍 x300

可調(diào)光斑尺寸從 20 毫米到 > 1 毫米，用于空間定義濺射

連續(xù)可變的離子束能量，最高可達 5keV

利用光束彎曲光學器件抑制中性物質

用于 TOF SIMS 的光束消隱功能

集成的束流監(jiān)測功能

可更換的光束微調(diào)孔徑，典型使用壽命大于 500 小時

雙燈絲提供操作備份，燈絲壽命一般大于 500 小時

內(nèi)部離子源壓力傳感器可監(jiān)測離子源壓力

所有 UHV 兼容和抗蝕刻材料均用于制造

預瞄準透鏡偏轉可縮小光斑尺寸

差分泵送，最大限度地減少主腔氣體負荷

可在各種惰性氣體范圍內(nèi)工作

參數(shù)信息

工作距離 35 毫米

中性物質抑制 3° 靜電彎曲光學器件

光束能量 ≤ 5keV 連續(xù)可變

光柵尺寸 4 x 4 毫米（最小值）

安裝法蘭 70 毫米（2.75 英寸）外徑 CF

差分泵 70 毫米（2.75 英寸）外徑 CF

供氣入口 34 毫米（1.33 英寸）外徑 CF

源氣體 He、Ne、Ar、Kr、Xe

烘烤溫度 最高 150 °C

Duoplasmatron Duoplasmatron Equavalent Ion Guns Model 1402 Model 1403 TOF/SIMS Model 1403Cs - Cesium/Alkali Ions Model 1404 Model 1407 Model 1420 Model 1450 Nonsequitur SIMS 二次離子質譜 雙等離子發(fā)射器 真空測試 真空系統(tǒng) 真空腔 真空表面化學實驗 離子槍 離子源 聚焦離子源 表面分析儀器