晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F
參考價(jià) | ¥ 30000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 上海進(jìn)佳科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 HORIBA/堀場
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/2/20 22:04:38
- 訪問次數(shù) 12
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氣體質(zhì)量流量計(jì),熱式質(zhì)量流量計(jì),熱式質(zhì)量流量控制器,液體質(zhì)量流量計(jì),液體質(zhì)量流量控制器,壓力調(diào)節(jié)閥,壓差表、壓差傳感器、制粒干燥機(jī)
應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,汽車 | 介質(zhì) | He, Ar, N2 |
---|---|---|---|
壓力控制范圍 | 10 Torr, 20 Torr,5Ttorr | 流量 | 100sccm |
輸出信號(hào) | 0-5V | 電源 | ±15VDC |
接口 | 1/4VCR |
晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F
控制壓力10torr、20torr、50torr
晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F又稱壓力自動(dòng)調(diào)節(jié)閥,
用于半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)中晶圓背面的微小壓力控制,實(shí)現(xiàn)冷卻系統(tǒng)的冷卻功能,減少晶圓的熱損傷。
晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F是壓力控制器GR500F系列中的熱門型號(hào),是壓力自動(dòng)調(diào)節(jié)閥GR-312F的升級產(chǎn)品,穩(wěn)定性更好,滿足晶圓生產(chǎn)中更嚴(yán)格的工藝要求。
晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F最小壓力控制器可以到1.3kpa.
特征
GR-511F是GR-312F的升級產(chǎn)品,Wafer背壓控制;
壓力控制更穩(wěn)定、精度0.5%;
可選擇流量信號(hào)反饋;
RoHS 認(rèn)證
技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | GR-511F |
閥門類型 | C: 常閉 |
泄漏率 | ≤ 7 × 10-11 Pa·m3 /s (He) |
工作壓力上限 | 300 kPa (A) |
耐壓 | 350 kPa (A) |
工作溫度 | 5-50 °C (Accuracy guaranteed temp : 15-40 °C) |
電源 | +15 VDC±5 %, 250 mA -15 VDC±5 %, 250 mA |
功率 | 7.5 VA |
輸出信號(hào) | Analog |
氣體 *1 | He, Ar, N2 |
接口 | 1/4 inch VCR |
壓力量程 | 1.333 kPa (A) (10 Torr), 2.666 kPa (A) (20 Torr), |
壓力控制范圍 | 1-100 %F.S. |
精度 *2 | ±0.5 %R.S. |
零點(diǎn)/溫度系數(shù) | ±0.04 %F.S./°C |
量程/溫度系數(shù) | ±0.04 %R.S./°C |
相應(yīng)時(shí)間*3 | ≤ 1 sec |
輸入模擬信號(hào) | 0.1-10 VDC (1-100 %F.S.) Input impedance ≥ 1 MΩ |
輸出模擬信號(hào) | 0-10 VDC (0-100 %F.S.) Minimum resistance 2 kΩ |
流量滿量程 *1 | 20, 50, 100 SCCM |
流量精度 *4 *5 | ±1 %R.S. (Flow rate > 25 %F.S.) |
流量輸出信號(hào) | 0-5 VDC (0-100 %F.S.) Minimum resistance 2 kΩ |
材質(zhì) | SUS316L |
安裝方向 *6 | Free |
重量*7 | 1.5 kg |
實(shí)物圖片
GR-511F、IGS接口14C3
應(yīng)用案例
熱門型號(hào):GR312F、GR314F、GR317F、GR511F、GR-224FD
UR-Z712M、UR-Z712M-B、UR-Z722M、UR-Z722M-B、UR-Z732M、UR-Z732M-B、UR-Z714M-B、UR-Z724M-B、UR-Z734M-B。
周邊產(chǎn)品
horiba質(zhì)量流量控制器,熱門型號(hào)
SEC-Z717SMGC、SEC-Z727SMGC、SEC-Z717MGC、SEC-Z717MGC、
HORIBA 是氣體和液體質(zhì)量流量控制器制造商之一,擁有一系列模擬、數(shù)字和高溫質(zhì)量流量控制器以及使用點(diǎn)液體源汽化控制和輸送系統(tǒng)。
HORIBA 可以為您的涂層工藝生產(chǎn)線提供穩(wěn)定的控制,如化學(xué)氣相沉積 (CVD),原子層沉積 (ALD),金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積 (MOCVD), PVD (物理氣相沉積),等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 和金剛石沉積或金剛石涂層 (DLC)。我們的產(chǎn)品提供全面的流體控制和過程監(jiān)控,以提高產(chǎn)量,增加吞吐量,并為您的涂層過程提高效。
本公司同時(shí)提供日本HORIBASTEC的質(zhì)量流量計(jì)、質(zhì)量流量控制器、數(shù)字式質(zhì)量流量控制器、耐腐蝕質(zhì)量流量控制器、數(shù)字壓力自動(dòng)調(diào)節(jié)閥、壓力控制器、薄膜硅真空計(jì)、汽化器、殘余氣體分析儀。
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