HAXN-3 光刻工藝生產(chǎn)超純水設(shè)備/水處理設(shè)備廠家

超高純度：能生產(chǎn)出電阻率高達(dá) 18MΩ?cm 以上，總有機(jī)碳（TOC）含量極低，顆粒計(jì)數(shù)極少的超純水，滿足光刻工藝對水質(zhì)的**要求，確保光刻膠的分辨率和精度。

穩(wěn)定運(yùn)行：采用高品質(zhì)的膜組件、泵、閥門等關(guān)鍵部件，經(jīng)過嚴(yán)格的設(shè)計(jì)和測試，可長時間連續(xù)穩(wěn)定供應(yīng)高質(zhì)量超純水，保證光刻工藝的連續(xù)性。

自動化程度高：配備**的 PLC 控制系統(tǒng)、傳感器網(wǎng)絡(luò)和遠(yuǎn)程監(jiān)控系統(tǒng)，可實(shí)時監(jiān)測和控制水質(zhì)、壓力、流量、溫度等參數(shù)，實(shí)現(xiàn)自動運(yùn)行、調(diào)節(jié)、保護(hù)和故障報(bào)警，減少人工操作和維護(hù)成本。

靈活定制：可根據(jù)不同的光刻工藝需求、生產(chǎn)規(guī)模和水質(zhì)要求，進(jìn)行模塊化設(shè)計(jì)和定制化配置，方便設(shè)備的安裝、調(diào)試和擴(kuò)展。

節(jié)能環(huán)保：采用節(jié)能型泵和優(yōu)化的工藝流程，降低能耗；同時，一些設(shè)備采用的 EDI 技術(shù)減少了酸堿廢水的排放，符合環(huán)保要求。