化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>掩模版和中間掩模版制造設(shè)備>掩模光刻膠處理及清洗設(shè)備> 光刻配套試劑 去膠液 顯影液 增粘劑
無(wú)掩膜版紫外光刻機(jī),超高精度3D光刻產(chǎn)品,形貌表征產(chǎn)品,光電光譜分析產(chǎn)品,3D成像顯微物鏡,磁光電聯(lián)合分析
光刻配套試劑 去膠液 顯影液 增粘劑在半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵作用不容忽視。這些試劑與光刻膠協(xié)同工作,確保光刻工藝的順利進(jìn)行。顯影液能精確顯影光刻膠,形成電路圖案;剝離液則用于清除剩余光刻膠,為后續(xù)步驟做好準(zhǔn)備。增粘劑、TARC/BARC、TCM等材料,分別起到增強(qiáng)粘附性、減少反射、防水等作用,提高光刻工藝的精度。
隨著技術(shù)進(jìn)步和國(guó)家政策的支持,光刻配套試劑行業(yè)在我國(guó)的發(fā)展勢(shì)頭迅猛。這些試劑的質(zhì)量和性能直接關(guān)系到半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量和性能,因此,不斷提升研發(fā)能力,實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化替代,對(duì)我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展具有重要意義。
托托科技致力于為半導(dǎo)體制造及印刷行業(yè)提供全面的光刻配套試劑,包括顯影液、去膠液和增粘劑等關(guān)鍵材料。
RZX-3038顯影液
型號(hào):RZX-3038
規(guī)格:4L/瓶
產(chǎn)品介紹:這是一種國(guó)產(chǎn)通用型光刻膠顯影液,適用于S1800系列、AZ5214、ROL-7133等多種光刻膠系列和型號(hào)。
MF-319顯影液
型號(hào):MF-319
規(guī)格:5L/瓶
產(chǎn)品介紹:進(jìn)口光刻膠顯影液,專(zhuān)為S1800 G2系列光刻膠設(shè)計(jì)。
AZ 400K顯影液
型號(hào):AZ 400K
規(guī)格:加侖/瓶
產(chǎn)品介紹:進(jìn)口顯影液,適用于AZ等多種光刻膠系列。
AZ 300 MIF Developer顯影液
型號(hào):AZ 300 MIF Developer
規(guī)格:20L/桶
產(chǎn)品介紹:用于顯影AZ等多種光刻膠系列。
PGMEA顯影液
型號(hào):PGMEA
規(guī)格:4L/瓶
產(chǎn)品介紹:國(guó)產(chǎn)SU8光刻膠顯影液。
SU-8 Developer顯影液
型號(hào):SU-8 Developer
規(guī)格:4L/瓶
產(chǎn)品介紹:進(jìn)口顯影液,專(zhuān)用于SU-8系列產(chǎn)品。
NMP去膠液
型號(hào):NMP
規(guī)格:4L/瓶
產(chǎn)品介紹:國(guó)產(chǎn)通用型去膠液,適用于S1800 G2系列、LOR/PMGI SF系列等。
AZ 400T STRIPPER去膠液
型號(hào):AZ 400T STRIPPER
規(guī)格:加侖/瓶
產(chǎn)品介紹:進(jìn)口去膠液,專(zhuān)為AZ系列產(chǎn)品設(shè)計(jì)。
remover 1165去膠液
型號(hào):remover 1165
規(guī)格:加侖/瓶
產(chǎn)品介紹:進(jìn)口去膠液,適用于S1800 G2、SPR 220系列、PM等。
Remover PG去膠液
型號(hào):Remover PG
規(guī)格:4L/瓶
產(chǎn)品介紹:進(jìn)口去膠液,適用于SU8、LOR/PMGI SF、PMMA等系列。
HMDS增粘劑
型號(hào):HMDS
規(guī)格:1L/瓶;加侖/瓶
產(chǎn)品介紹:光刻膠增粘劑,通過(guò)旋涂或熏蒸方法使用,有效改善光刻膠與襯底的粘附性,適用于玻璃、石英等襯底。
托托科技的光刻配套試劑 去膠液 顯影液 增粘劑涵蓋了光刻工藝的各個(gè)環(huán)節(jié),確保了半導(dǎo)體制造過(guò)程的順利進(jìn)行,同時(shí)也為印刷行業(yè)提供了高品質(zhì)的解決方案。