無掩模光刻機

托托科技推出的無掩模光刻機采用前沿的技術，提供了多種型號以滿足不同的需求。這些光刻機基于空間光調(diào)制器原理，擺脫了傳統(tǒng)實體掩模的限制，以其高精度、高效率和高靈活性而受到用戶的青睞。我們主要應用于科學研究、小批量多種類的生產(chǎn)等領域，如掩模版制造、二維材料器件、微流道芯片和MEMS器件等。托托科技的光刻機產(chǎn)品線包括多個版本可供選擇： 

科研版（ACA系列）：此型號基于空間光調(diào)制技術，實現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻。它具有長壽命、高功率的紫外光源，設備穩(wěn)定且操作簡單。其特色功能包括原位光繪和交互式套刻指引，使得光刻和套刻更加精準和容易。 

教育版（Young）：這是一款桌面型無掩膜光刻機，靈活小巧，非常適合用于微電子、集成電路等領域的實驗課程。 

高速版（Speed）：這個版本具備更快的加工速度和更強的設備性能，適用于小批量生產(chǎn)制造。 

托托科技的無掩模光刻機具有多種優(yōu)勢，如無需掩模版的靈活性、高加工精度（可達400 nm）、高速度（可達1200 mm2/min）以及大加工幅面（可達2 m2）。此外，我們還提供了4096階的灰度光刻能力，能夠構(gòu)建出具有高度復雜且細膩層次變化的微觀結(jié)構(gòu)或圖案。 

托托科技的光刻機憑借其性能和靈活的技術，在多個高科技領域得到了廣泛應用。無論是二維材料的精準加工、微流控芯片的復雜制作，還是MEMS器件的精細制造，托托科技的光刻機都能提供高效解決方案。同時，它在微透鏡、光學衍射器件、浮雕結(jié)構(gòu)、超表面以及量子光學等前沿領域也展現(xiàn)出強大的應用潛力，為科學研究和技術創(chuàng)新提供了有力支持。