無(wú)掩模光刻機(jī)

托托科技推出的無(wú)掩模光刻機(jī)采用前沿的技術(shù)，提供了多種型號(hào)以滿(mǎn)足不同的需求。這些光刻機(jī)基于空間光調(diào)制器原理，擺脫了傳統(tǒng)實(shí)體掩模的限制，以其高精度、高效率和高靈活性而受到用戶(hù)的青睞。我們主要應(yīng)用于科學(xué)研究、小批量多種類(lèi)的生產(chǎn)等領(lǐng)域，如掩模版制造、二維材料器件、微流道芯片和MEMS器件等。托托科技的光刻機(jī)產(chǎn)品線(xiàn)包括多個(gè)版本可供選擇： 

科研版（ACA系列）：此型號(hào)基于空間光調(diào)制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻。它具有長(zhǎng)壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定且操作簡(jiǎn)單。其特色功能包括原位光繪和交互式套刻指引，使得光刻和套刻更加精準(zhǔn)和容易。 

教育版（Young）：這是一款桌面型無(wú)掩膜光刻機(jī)，靈活小巧，非常適合用于微電子、集成電路等領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)課程。 

高速版（Speed）：這個(gè)版本具備更快的加工速度和更強(qiáng)的設(shè)備性能，適用于小批量生產(chǎn)制造。 

托托科技的無(wú)掩模光刻機(jī)具有多種優(yōu)勢(shì)，如無(wú)需掩模版的靈活性、高加工精度（可達(dá)400 nm）、高速度（可達(dá)1200 mm2/min）以及大加工幅面（可達(dá)2 m2）。此外，我們還提供了4096階的灰度光刻能力，能夠構(gòu)建出具有高度復(fù)雜且細(xì)膩層次變化的微觀結(jié)構(gòu)或圖案。 

托托科技的光刻機(jī)憑借其性能和靈活的技術(shù)，在多個(gè)高科技領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。無(wú)論是二維材料的精準(zhǔn)加工、微流控芯片的復(fù)雜制作，還是MEMS器件的精細(xì)制造，托托科技的光刻機(jī)都能提供高效解決方案。同時(shí)，它在微透鏡、光學(xué)衍射器件、浮雕結(jié)構(gòu)、超表面以及量子光學(xué)等前沿領(lǐng)域也展現(xiàn)出強(qiáng)大的應(yīng)用潛力，為科學(xué)研究和技術(shù)創(chuàng)新提供了有力支持。