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顯微鏡LED曝光系統(tǒng) UTA-IA系列

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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深圳山河精測(cè)科技有限公司,成立于2019年,是一家專注于精密檢測(cè)儀器的代理及精密光學(xué)結(jié)構(gòu)模塊的定制等業(yè)務(wù)的企業(yè)。

目前與奧林巴斯、日本photo Lattice、日本Micro Support等企業(yè)達(dá)成長(zhǎng)期代理與合作;主要代理產(chǎn)品包括:奧林巴斯工業(yè)顯微鏡系列,奧林巴斯工業(yè)探傷儀器系列,日本photo Lattice的光學(xué)應(yīng)力與偏光檢測(cè)儀系列等。

代理產(chǎn)品主要應(yīng)用于半導(dǎo)體制造及封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、微納材料制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業(yè)、PCB行業(yè)、石油化工、電力、新能源等行業(yè)。能夠根據(jù)客戶的特定需求,設(shè)計(jì)和制造出高度定制化的精密光學(xué)結(jié)構(gòu)模塊,滿足不同行業(yè)、不同應(yīng)用場(chǎng)景的多樣化需求。

在未來的發(fā)展中,深圳山河精測(cè)科技有限公司將繼續(xù)秉承“專業(yè)、精準(zhǔn)、創(chuàng)新、服務(wù)”的經(jīng)營(yíng)理念,不斷拓展業(yè)務(wù)領(lǐng)域,提升服務(wù)品質(zhì),為客戶提供更加優(yōu)質(zhì)、高效的精密檢測(cè)解決方案。

 

工業(yè)顯微鏡,超聲波探傷儀,超聲波測(cè)厚儀,渦流探傷儀,相控陣探傷儀,工業(yè)內(nèi)窺鏡,雙折射應(yīng)力儀,三坐標(biāo),工業(yè)鏡頭,顯微鏡物鏡,非接觸3D測(cè)量?jī)x,激光共聚焦顯微鏡,納米壓痕儀,顯微鏡下微取樣系統(tǒng),無掩膜曝光系統(tǒng)。

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 化工

一、產(chǎn)品特點(diǎn)

1.顯微鏡LED曝光系統(tǒng) UTA-IA系列是不需要使用光罩就可以完成曝光的Pattern投影式曝光設(shè)備;

2. 使用金屬顯微鏡和LED光源DLP投影儀、即可把解像度數(shù)μm的任意Pattern投影在涂布光阻的基板上,進(jìn)行曝光;

3. Pattern可以使用電腦自由操作;

4.顯微鏡LED曝光系統(tǒng) UTA-IA系列將多種大小,形狀以及層狀在大氣環(huán)境下形成電極在單晶薄膜上,比起電子束曝光機(jī)價(jià)格來的便宜,方便性高.使用時(shí)也不需要制作Pattern Mask

二、產(chǎn)品用途

1. 薄膜FET以及Hole效果量測(cè)用試料的電極形成;

2.從石墨烯鉬礦石取出薄片,進(jìn)行礦石特性評(píng)價(jià)的電極形成;

3. 面向研究開發(fā)方向的模式形成。

三、產(chǎn)品特征

1. 因?yàn)槭秋@微鏡和DLP的組合,所以比現(xiàn)有的系統(tǒng)要便宜的曝光設(shè)備;

2. 因?yàn)槭呛?jiǎn)單好用的專用軟件,所以可以簡(jiǎn)單的做成各種模式;

3. 用對(duì)物鏡頭的倍率,可以從微細(xì)模式到廣范圍的一次全部曝光;

4. 可安裝在所有的顯微鏡上(根據(jù)顯微鏡的規(guī)格要求);

5. 解像度數(shù)μm模式成形可以;

6.曝光范圍:大2.5mm×1.5mm,最小100um×60um,

四、軟件界面

顯微鏡LED曝光系統(tǒng) UTA-IA系列

*曝光前可試投影。(使用紅光,不會(huì)感光)

顯微鏡LED曝光系統(tǒng) UTA-IA系列

*用白色光曝光。(可設(shè)定曝光時(shí)間)

 




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