德國(guó)ADL離子源電源GG 12 Beam用于微電子
參考價(jià) | ¥ 48000 |
訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱(chēng) 北京漢達(dá)森機(jī)械技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/3/18 17:01:23
- 訪問(wèn)次數(shù) 23
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供貨周期 | 一個(gè)月以上 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,電氣,綜合 |
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德國(guó)ADL離子源電源GG 12 Beam用于微電子
公司簡(jiǎn)介:
ADL Analoge & Digitale Leistungselektronik GmbH是一家開(kāi)發(fā)和制造商,生產(chǎn)電源和發(fā)電機(jī),以及用于特殊工業(yè)應(yīng)用和研究機(jī)構(gòu)的電力電子設(shè)備。
ADL 濺射技術(shù)在產(chǎn)品和鍍膜設(shè)計(jì)方面擁有 30 多年的經(jīng)驗(yàn)和專(zhuān)業(yè)知識(shí)。這種專(zhuān)業(yè)知識(shí)使 ADL 成為各種薄膜涂層合作伙伴 - 用于顯示器、箔、玻璃、硬涂層、工具、裝飾表面、微電子等等。
產(chǎn)品介紹:
離子源電源GG 12 Beam
產(chǎn)品特點(diǎn):
在離子束和等離子體工藝技術(shù)中的廣泛應(yīng)用
蝕刻、濺射等等
創(chuàng)新應(yīng)用,例如微電子、光學(xué)和傳感器
工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域
鍍膜工藝:在光學(xué)鍍膜、硬質(zhì)涂層等工業(yè)鍍膜過(guò)程中,ADL GG 12 Beam 為離子源提供穩(wěn)定的電力,使離子能夠均勻地轟擊靶材,實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的薄膜沉積。這種高質(zhì)量的鍍膜可以提高產(chǎn)品的耐磨性、耐腐蝕性、光學(xué)性能等,廣泛應(yīng)用于眼鏡鏡片、刀具、汽車(chē)零部件等產(chǎn)品的表面處理。
半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中,用于離子蝕刻、離子注入等關(guān)鍵工藝。通過(guò)精確控制離子源的參數(shù),實(shí)現(xiàn)對(duì)芯片結(jié)構(gòu)的高精度加工和摻雜,確保芯片的性能和可靠性。例如,在芯片的光刻工藝之后,利用離子蝕刻技術(shù)可以精確地去除不需要的半導(dǎo)體材料,形成復(fù)雜的電路結(jié)構(gòu);而離子注入則可以精確地控制半導(dǎo)體中的雜質(zhì)濃度,從而調(diào)節(jié)晶體管的性能。
型號(hào)列表:
GG 03 Accelerator 09Z001
GG 03.1 Accelerator 09Z002
GG 08 Accelerator 09Z005
GG 12 Beam 09Z011
GG 12.1 Beam 09Z012
德國(guó)ADL離子源電源GG 12 Beam用于微電子