Otsuka大塚OPTM series Otsuka大塚顯微分光膜厚儀 高精度測(cè)量

Otsuka大塚顯微分光膜厚儀 高精度測(cè)量 非接觸 · 非破壞 · 顯微、對(duì)焦、測(cè)量1秒完成 ● OPTM系列顯微分光膜厚儀是一款可替代橢偏儀，測(cè)試膜厚、折射率n、消光系數(shù)k、絕對(duì)反射率的新型高精度、高性價(jià)比的分光膜厚儀。適用于各種可透光膜層的測(cè)試，并有可針對(duì)透明基板去除背面反射，從而達(dá)到“真實(shí)反射率、膜厚”測(cè)試的目的。此外，軟件操作簡(jiǎn)單、使用方便且簡(jiǎn)化了復(fù)雜的建模流程。

Otsuka大塚顯微分光膜厚儀 高精度測(cè)量非接觸、非破壞式，量測(cè)頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)

● 初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式

● 高精度、高再現(xiàn)性量測(cè)紫外到近紅外波段內(nèi)的絕對(duì)反射率，可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）

● 單點(diǎn)對(duì)焦加量測(cè)在1秒內(nèi)完成

● 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外 ~ 近紅外）

● 獨(dú)立測(cè)試頭對(duì)應(yīng)各種inline定制化需求

● 最小對(duì)應(yīng)spot約3μm

● 可針對(duì)超薄膜解析nk

 絕對(duì)反射率分析

●  多層膜解析（50層）

●  光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）

膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內(nèi)部反射的影響，無(wú)法正確測(cè)量。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內(nèi)部反射，即使是透明基板也可以實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。此外，對(duì)具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品，也可不受其影響，單獨(dú)測(cè)量上面的膜。

半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體：硅半導(dǎo)體、碳化硅半導(dǎo)體、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠、介電常數(shù)材料

● FPD：LCD、TFT、OLED（有機(jī)EL）

● 資料儲(chǔ)存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料

● 光學(xué)材料：濾光片、抗反射膜

● 平面顯示器：液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED

● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它：建筑用材料、膠水、DLC等

各類日系工業(yè)品:,SSD西西蒂(離子風(fēng)扇)、AND愛(ài)安得（電子天平）、SAN-EI三英(點(diǎn)膠閥） HOYA光源,KURABO脫泡機(jī),USHIO牛尾照度計(jì),Tsubosaka壺坂電機(jī),IMV愛(ài)睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機(jī),lambda拉姆達(dá)膜厚儀,MUSASHI武藏,SAKURAI櫻井,aitec艾泰克,otsuka大塚（膜厚儀、粒度儀）,Hitachi日立（掃描電鏡）,MIKASA米卡薩（旋涂設(shè)備、顯影）、POLARION普拉瑞、AITEC艾泰克（檢查光源）、Iwasaki巖崎、OTSUKA大塚電子（光學(xué)膜厚儀）、KOSAKA小坂（臺(tái)階儀）、HORIBA堀場(chǎng)儀器（分析儀）、SIBATA柴田科學(xué)（環(huán)境測(cè)定）、TORAY東麗濃度儀（氧氣分析儀）、yamada山田鹵素強(qiáng)光燈、CEDAR思達(dá)