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2023
06-08光學(xué)光刻技術(shù)(Optical lithography)
1.簡(jiǎn)介光學(xué)光刻(Opticallithography),也稱為光學(xué)平版印刷術(shù)或紫外光刻,是在其他處理步驟(例如沉積,蝕刻,摻雜)之前用光刻膠對(duì)掩模和樣品進(jìn)行構(gòu)圖的方法。2.設(shè)備(接近式光刻機(jī))2.1...2023
02-162023
02-14光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜產(chǎn)品的測(cè)量
光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng),可以很簡(jiǎn)單快速地獲得薄膜的厚度及nk,采用r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái),可以在幾秒鐘的時(shí)間內(nèi)快速的定位所需測(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度,可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式,...2023
01-112023
01-102023
01-102022
12-142022
11-252022
11-252023
03-162022
11-24ThetaMetrisis膜厚儀用于氧化釔 (Y2O3) 涂層厚度測(cè)量
接下來(lái)為大家介紹ThetaMetrisis膜厚儀在氧化釔(Y2O3)涂層厚度方面的測(cè)量應(yīng)用。ThetaMetrisis膜厚儀可快速準(zhǔn)確地繪制大尺寸氧化鋁陶瓷圓盤(pán)上的抗等離子涂層Y2O3厚度。1、案例介...2022
11-24FR-Scanner-AIO-Mic-XY200: 微米級(jí)精度膜厚儀簡(jiǎn)介
FR-Scanner-AIO-Mic-XY200是一款自動(dòng)薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng),光學(xué)膜厚儀用于全自動(dòng)圖案化晶圓上的單層和多層涂層厚度測(cè)量。電動(dòng)X-Y載物臺(tái)提供適用尺寸200mmx200mm的行程,可在20...2022
11-212023
03-162022
10-242022
10-192022
10-19ThetaMetrisis 自動(dòng)化薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng)介紹
FR-Scanner-AIO-Mic-XY200:微米級(jí)定位精度自動(dòng)化薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng)介紹FR-Scanner-AIO-Mic-XY200是一款自動(dòng)薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng),用于全自動(dòng)圖案化晶圓上的單層和多層...2022
10-184H-SiC 外延層中堆垛層錯(cuò)與襯底缺陷的關(guān)聯(lián)性研究
1.摘要本研究探討了同質(zhì)外延生長(zhǎng)的4H-SiC晶片表面堆垛層錯(cuò)(SF)的形貌特征和起因。依據(jù)表面缺陷檢測(cè)設(shè)備KLA-TencorCS920的光致發(fā)光(PL)通道和形貌通道的特點(diǎn),將SF分為五類。其中I...2022
09-02薄膜的厚度檢測(cè)在薄膜制造及加工業(yè)是常見(jiàn)的指標(biāo)之一
在薄膜制造及加工業(yè),檢測(cè)薄膜的厚度是常見(jiàn)的薄膜檢測(cè)指標(biāo)之一,厚度檢測(cè)又多分為薄膜厚度檢測(cè)以及涂層厚度檢測(cè)兩類。由于薄膜的厚度是各層樹(shù)脂厚度的總和,如果薄膜的整體厚度均勻性差,其中各層樹(shù)脂的厚度分布也會(huì)...2022
08-13ThetaMetrisis 膜厚儀應(yīng)用說(shuō)明
ThetaMetrisis膜厚儀應(yīng)用說(shuō)明#050應(yīng)用微間距覆晶解決方案應(yīng)用銅柱凸塊新封裝技術(shù)系列激光加工/切割冷卻液水溶性保護(hù)膜(HogoMax)厚度測(cè)量應(yīng)用。1、介紹:隨著芯片制程逐漸微縮到28奈米...請(qǐng)輸入賬號(hào)
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