目錄:孚光精儀（中國(guó)）有限公司>>激光微納加工系統(tǒng)>>飛秒激光光刻機(jī)系統(tǒng)>> FPKLO-UV無(wú)掩膜光刻機(jī)
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更新時(shí)間：2024-04-02 09:16:18瀏覽次數(shù)：3651評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,能源,電子,航天 |
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這套無(wú)掩膜光刻機(jī)具有無(wú)掩模光刻技術(shù)的便利，大大提高無(wú)掩膜影印和新產(chǎn)品研發(fā)的效率，節(jié)省時(shí)間，是*的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)。
這款無(wú)掩模光刻機(jī)直接用375nm或405nm紫外激光把圖形寫(xiě)到光膠襯底上。
無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，無(wú)掩膜光刻機(jī)特色
尺寸：925x925x1600mm
內(nèi)置計(jì)算機(jī)控制接口
激光光源：375nm或405nm
視頻輔助定位系統(tǒng)
自動(dòng)聚焦設(shè)置
無(wú)掩膜光刻機(jī)參數(shù)
線性寫(xiě)取速度：>500mm/s
重復(fù)精度： 100nm
晶圓寫(xiě)取面積：1—6英寸
襯底厚度：250微米-10毫米
激光點(diǎn)大小：1-100微米
準(zhǔn)直精度：500nm
這套無(wú)掩膜光刻機(jī)具有無(wú)掩模光刻技術(shù)的便利，大大提高無(wú)掩膜影印和新產(chǎn)品研發(fā)的效率，節(jié)省時(shí)間，是*的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)。
這款無(wú)掩模光刻機(jī)直接用375nm或405nm紫外激光把圖形寫(xiě)到光膠襯底上。
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