無孔碳支持膜系列

碳支持膜(Formvar Stabilized with Carbon Support Film)是在方華膜上再覆蓋一層碳，是常見并被廣泛采用的支持膜。由于碳層具有抗熱性和導電性，增強了方華膜的牢固和穩(wěn)定性，彌補了無碳方華膜的許多缺陷。噴鍍的碳顆粒很細，通常小于1nm，是200kV電鏡下觀察納米材料的較好選擇。膜總厚度：10-20nm。推薦選用200目載網(wǎng)。

純碳支持膜(Carbon Support Film with a Removable Formvar Backing)是在載網(wǎng)的反面有一層可移除的方華膜，載網(wǎng)正面覆蓋較厚的碳層。當觀察有機溶劑分散過的樣品時，溶劑會將載網(wǎng)反面的有機層溶去，只留下純碳膜和被觀察樣品。與其它膜相比，碳的密度較高，散射能力較強，機械性能及化學穩(wěn)定性好，進而可減少樣品的熱漂移，增強樣品穩(wěn)定性。對于較高溫下處理的樣品，也有明顯的優(yōu)勢。由于它比碳支持膜的碳層厚，背底影響較大，適合觀察10nm以上的樣品。膜總厚度：20-40nm。推薦選用400目載網(wǎng)。

薄純碳支持膜(Thinner Pure Carbon Support Film)是沒有附帶任何有機層的薄型純碳膜，由于膜層薄，觀察樣品時背底影響小，特別適合分散性較好，帶有機包覆層的核殼結(jié)構(gòu)之類的納米材料樣品。在操作上膜總厚度：7-10nm(根據(jù)實驗要求還可以更薄，達到3-7nm)。推薦選用400目載網(wǎng)。

超薄碳支持膜(Ultrathin Pure Carbon Film with no Formvar Backing on Lacey Carbon Support Film)是在具有微孔支持膜(微柵)上再覆蓋一層薄的碳層。它是沒有方華膜背底的純碳膜。是針對觀察10nm以下，分散性較好的納米材料所生產(chǎn)的一款支持膜。用戶可通過覆蓋著超薄碳支持膜的微孔觀察樣品。膜層較其它種類的支持膜都要薄，所以可以獲得很好的高分辨像。特別適用于低襯度的高分辨電鏡，并且是能量過濾(Energy FilteringTEM)檢測的理想產(chǎn)品。膜厚度：3-5nm。推薦選用200目載網(wǎng)。

有孔碳支持膜系列

微柵支持膜(Lacey Support Film)是具有微小孔洞的支持膜，是高倍電鏡下觀察納米結(jié)構(gòu)像的較好選擇。由于微柵膜采用較特殊的有機材料，所以其牢固性優(yōu)于方華膜。采用微柵支持膜的主要目的是為了讓樣品能在孔洞處或孔邊緣觀察樣品。病毒或細菌顆粒一般

會附著在微柵孔的邊緣，一維納米材料可搭載在微孔兩端，因此沒有基底物質(zhì)的干擾。更便于微束分析，獲得單顆粒電子衍射像。常見孔徑大約2-8μm。膜厚度：15-30nm。推薦選用200目載網(wǎng)。

純碳微柵支持膜(A Lacey Support Film with a Removable Formvar Backing)是在載網(wǎng)的一面有一層可去除的有機膜，當放入溶劑中有機膜被溶去，載網(wǎng)另一面的純碳微柵膜不會受影響而保留下來。它既擁有純碳支持膜耐有機溶劑腐蝕和耐高溫等特點，又具備微柵支持膜在高倍電鏡下觀察樣品高分辨像的優(yōu)勢。更便于微束分析或獲得單顆粒電子衍射像。膜總厚度:15-30nm。推薦選用230目載網(wǎng)。

FIB微柵支持膜(FIB Lacey Support Film)于FIB(聚焦離子束)分析技術領域，微柵中的微孔直徑通常為8-15μm。由于它所承載的樣品大多為微電子器件，所以要求膜面必須具有良好的樣品黏附性。采用的定向標識載網(wǎng)。膜總厚度：15-30nm。推薦選用200目載網(wǎng)。

多孔碳支持膜(Holey Support Film)是一款適合納米材料表征的新型支持膜產(chǎn)品。支持膜上分布大小不均的微孔(約2-15μm)。微孔數(shù)量少于微柵，膜面積占較大部分。使用時可在低倍下觀察樣品的形貌像，高倍下觀察微孔上的樣品的高分辨像。膜厚度：15-20nm。推薦選用230目載網(wǎng)。

Quantifoil規(guī)則多孔支持膜(Quantifoil Micromachined Holey Carbon Support Film)是精密排列有各種尺寸、形狀微孔的支持膜。與普通多孔碳膜相比，其固定的幾何外形便于在TEM上進行自動化操作?？妆砻娣e大，可降低支持膜干擾造成的樣品失真。這在電子衍射，電子能量損失譜成像和暗場成像中非常重要。可用于支撐超薄碳膜或直接作為較大樣品的載體。此種膜還可應用于物質(zhì)納米特征研究，如生物大分子復合體在載體自由懸層的研究。膜孔徑的定制范圍為1-7μm。膜厚度：18-20nm。

C-flat純碳多孔支持膜(C-flat™ Holey Carbon Grids for cryo-TEM)是應用于Cryo-TEM的支持膜。較其他種類的多孔支持膜平整度高，較Quantifoil多孔支持膜純凈，沒有任何殘留有機層。由于其超高的平整度可使冰層平整，顆粒分布均勻。是樣品進行單顆粒分析，低溫三維重構(gòu)和自動TEM分析的較好選擇。

非碳材料支持膜

非碳材料支持膜主要包括：方華膜，鍍金支持膜，鍍鍺支持膜，氧化硅支持膜，氮化硅薄膜窗格等。

無碳方華膜(Pure Formvar Support Film Only)的化學成分是聚乙烯醇縮甲醛，可溶于二氯乙烷或****溶液。膜強度高，透過率好。由于沒有任何鍍層物質(zhì)，所以有機膜彈性好，背底影響小，是承載超薄切片的理想材料。但因其導電性能不好，在電子束照射下會因高溫或電荷積累引起局部受熱碳化，產(chǎn)生黑斑。引起樣品漂移，甚至使膜破碎。通常在100kV電鏡上使用較多。膜厚度：10-15nm。推薦選用200目載網(wǎng)。

鍍金支持膜(Formvar Stabilized with Gold Support Film)主要用于不能以碳為襯底的電子顯微表征。便于EDS檢測。由于金的化學性質(zhì)非常穩(wěn)定，可以用來校正電子顯微鏡的放大倍數(shù)和電子衍射相機長度，標定高分辨像的晶格條紋間距。膜厚度：10-20nm。推薦選用200目載網(wǎng)。

鍍鍺支持膜(Formvar Stabilized with Germanium Support Film)具有化學性質(zhì)穩(wěn)定，襯度好等優(yōu)點?？梢杂脕硇Ｕ娮语@微鏡的放大倍數(shù)和電子衍射相機長度，標定高分辨像的晶格條紋間距。由于鍺的原子序數(shù)低于金，產(chǎn)生的背底噪音優(yōu)于金膜，所以可以改善像的襯度。

氮化硅薄膜窗格(Silicon Nitride Support Film)可承受1000°C的高溫。在高溫條件下研究或制備納米材料時，需要選用*無定形的高強度氮化硅支持膜。當對碳進行EDS分析時，不會有碳峰干擾。

氧化硅薄膜窗格(Silicon Monoxide Support Film)彈性較好，適用于各種樣品制備技術，在電子束轟擊下比較穩(wěn)定，襯度及親水性較碳膜稍差。

特型載網(wǎng)支持膜

除了我們通常使用的圓孔和方孔載網(wǎng)支持膜外，特殊應用時會選擇一些特型載網(wǎng)制作的支持膜。如光圈載網(wǎng)，狹縫載網(wǎng)，雙聯(lián)載網(wǎng)等。

光圈載網(wǎng)支持膜和狹縫載網(wǎng)支持膜(Support Film on Aperture / Slot Grids)通常用來蘸取連續(xù)超薄切片。由于其網(wǎng)格稀疏所以對組織結(jié)構(gòu)極少遮擋。但因其網(wǎng)孔較大，支持膜制作成功率往往不高，通常采用增加支持膜厚度來增強支持膜的強度。但支持膜過厚，會影響樣品的清晰度。

雙聯(lián)載網(wǎng)支持膜(Support Film on Double Folding Grids)可應用于磁性樣品或?qū)χС帜じ街Σ畹臉悠贰Ｊ褂脮r將樣品架在雙聯(lián)網(wǎng)間，可起到很好的固定作用，也可減少由于樣品的不穩(wěn)定性對電鏡造成的污染。