上海皓越真空設(shè)備有限公司

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AHS-CVD系統(tǒng)
  • AHS-CVD系統(tǒng)
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貨物所在地：上海上海市

更新時(shí)間：2024-08-31 21:00:06

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這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成，可根據(jù)用戶(hù)需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預(yù)抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠。

這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成，可根據(jù)用戶(hù)需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預(yù)抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠?？刂齐娐愤x用模糊PID程控技術(shù)，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡(jiǎn)單易操作等特點(diǎn)。CVD生長(zhǎng)系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。

高真空空管式爐

 爐管尺寸：

外徑Φ60×1000mm、Φ80×1000mm

 極限溫度：

1700 ℃

 工作溫度：

800 -1600 ℃

溫度控制器：

PID自動(dòng)控制 晶閘管（可控硅）輸出功率， 50段可編程控制器

 zui快升降溫速率：

1400℃以下≤10℃/min，1400℃到1600℃≤5℃/min

 加熱區(qū)：

500mm

 恒溫區(qū)：

250mm

溫度精度：

±1 ℃

 電源：

單相220V,交流50Hz

 

多通道流量計(jì)控制系統(tǒng)

標(biāo)準(zhǔn)量程：

100，200 ，500，1000SCCM； （以氮?dú)鈽?biāo)定，除以上標(biāo)準(zhǔn)外量程可選）

準(zhǔn)確度：

±1.5%

工作壓差范圍：

0.01～0.05 MPa

zui大壓力：

0.02MPa

接頭類(lèi)型：

Φ6雙卡套不銹鋼接頭

高真空系統(tǒng)

泵體積流量N2:

33 L/S

壓縮比：

10:11    

實(shí)驗(yàn)真空值：

10-5mbar

功率消耗：

140W

啟動(dòng)時(shí)間：

2min

電源要求：

185-265VAC
本公司可定制各種CVD系統(tǒng)。
：139 1789 8272 ，139 1774 7915，歡迎客戶(hù)。

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