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真空管式爐產(chǎn)品描述

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真空管式爐以1800型硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和日本島電40段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，氣真空管式爐爐膛采用美國進口氧化鋁多晶體纖維材料，真空管式爐雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，能快速升降溫，采用美國進口99.8高純剛玉管、兩端用不銹鋼法蘭密封，用浮子流量計控制進氣流量、該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產(chǎn)品.
 
真空管式爐規(guī)格型號
HTL1700系列真空管式爐
型號
爐膛尺寸（mm）L×D×H
功率（kw）
zui高溫度℃
加熱元件
電壓
升溫速率
HTL1700-60
Φ60×1000
5
1700℃
硅鉬棒
220V
≤10℃/min
HTL1700-80
Φ80×1000
5
1700℃
硅鉬棒
220V
≤10℃/min
 

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