射頻磁控濺射鍍膜裝置// 返回列表頁

射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號：DP-RM-1

主要用途：本設(shè)備主要用于大專院校研究和開發(fā)納米級單層膜；如各種硬質(zhì)膜、金屬膜；也可以是非金屬、化合物等薄膜材料?？梢孕兄苯訛R射，亦可以實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射。

主要特點(diǎn)：結(jié)構(gòu)簡捷、操作簡便，真空度維護(hù)，安可靠。

鍍膜機(jī)應(yīng)安裝在干凈無塵埃、無腐蝕性氣體的室內(nèi)，并具備清潔水源、及220V的穩(wěn)定電壓等條件的地方。

1、地面的基本水平度要經(jīng)過調(diào)整，不得低不平；

2、環(huán)境溫度：10℃～30℃；

3、相對濕度：不大于75%；

4、耗水量（水溫度≤25℃，2.5Kg≥水壓≥1.5Kg）：約0.2T/h；

5、水質(zhì)要求：

矽酸硬度<6度，PH值：7－8，電導(dǎo)率：200us/cm,沉積率：<200mg/L。

6、電壓： 220V，50H_Z，

電壓波動范圍： 198～231V；

頻率波動范圍：49～51Hz;

7、水壓：0.3～1Kg/cm²或0.03～0.1MPa/cm²;

8、充入氣體純度99.9%或以上;

9、鍍膜用耗材純度99.9%或以上。

北京亞歐德鵬科有限公司
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