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目錄:北京瑞科中儀科技有限公司>>電子束>> 專用電子束光刻系統(tǒng)

專用電子束光刻系統(tǒng)
  • 專用電子束光刻系統(tǒng)
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
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  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 廠商性質 經銷商
  • 所在地 北京市
屬性

應用領域:環(huán)保,化工,電子

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更新時間:2024-07-10 15:40:55瀏覽次數:622評價

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應用領域 環(huán)保,化工,電子
專用電子束光刻系統(tǒng)這些創(chuàng)新、智能配置的電子束光刻系統(tǒng)可以輕松有效地實現納米加工。所有 Raith EBL 系統(tǒng)都配備了高精度激光干涉儀平臺和圖案發(fā)生器,可為您的工作提供Z高的精度和速度。其他功能(例如traxx 和 periodixx、無拼接錯誤曝光模式以及Nanosuite(直觀且全面的納米光刻軟件) )使 Raith 的系統(tǒng)有別于其他納米光刻設備。聯系我們討論哪種系統(tǒng)適合您的需求。

專用電子束光刻系統(tǒng)
自動化、穩(wěn)定性和吞吐量

 

徽標 EBPG Plus 淺灰色

 

EBPG Plus 高性能納米光刻系統(tǒng)可在 100 kV 電壓下提供高達 8 英寸的能力。其全自動化、高速和高分辨率可以為中心的操作以及半導體制造產生的光刻技術。

 

 

憑借其創(chuàng)新的架構和具有吸引力的擁有成本,VOYAGER 納米光刻系統(tǒng)降低了高速電子束光刻的準入門檻。

 

RAITH150 兩個標志

 

RAITH150 兩個直寫工具提供超高分辨率 EBL 和出色的成像能力。亞 8 納米結構可以在從幾毫米到 8 英寸晶圓的樣品尺寸上實現,而熱穩(wěn)定性即使在具有挑戰(zhàn)性的環(huán)境中也能支持最高性能。

多技術電子束光刻系統(tǒng)

靈活性、多功能性和 SEM 成像

 

eLINE Plus 標志

 

這種多功能的多技術納米光刻系統(tǒng)將 EBL 系統(tǒng)與用于定制實驗和工藝的開放平臺相結合。eLINE Plus 具有一系列不同的選項,是通用的納米工程 EBL 系統(tǒng)。

 

先鋒二號標志

 

EBL-SEM 混合系統(tǒng)將先進的納米光刻和分析 SEM 成像結合在一個工具中。PIONEER Two 定義了一種新型的經濟型專業(yè)電子束光刻系統(tǒng),適用于納米加工和基于 SEM 的分析。

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