奈米碳管與石墨烯製程。

SiOx、SiNx、a-Si、DLC和其他薄

膜製程。

二維材料。

醫(yī)療和商業(yè)產(chǎn)品的耐磨薄膜。

陽(yáng)極電鍍處理鋁腔。

通過(guò)使用水冷系統(tǒng)、加熱器或

加熱包來(lái)控制腔體溫度。

客製化的基板尺寸，最大直徑可達(dá)

12寸晶圓。

腔體壓力：50~10-3 Torr。

精準(zhǔn)流量控制器，氣體分佈高度均勻，最多可擴(kuò)充10條氣體管線。

穩(wěn)定的溫度控制，將載盤(pán)加熱至700°C。

使用Tornado ICP線圈，ICP電漿範(fàn)

圍為50W ~2000W，滿足客戶ICP-CVD製程需求。

可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手

套箱整合在一起。

RPS用於腔體清潔。

橢圓偏振光譜儀。

發(fā)射光譜儀。

高真空傳送系統(tǒng)。