2dsemiconductors kish-graphite說明書

基什石墨

Kish 石墨已在實驗室使用熔融鐵碳化物冷卻工藝合成，以實現(xiàn)研究級 Kish 石墨材料。通常 Kish 石墨是不銹鋼工藝的天然副產(chǎn)品，通常從冷卻的鐵表面收集小石墨片。這個過程的目的不是生產(chǎn)石墨，而是專注于生產(chǎn)含碳雜質(zhì)的鐵。因此，基什石墨的純度通常為 75%。 

我們開發(fā)了鐵箔冷卻工藝，通過半導(dǎo)體級甲烷和乙烷混合物將碳溶解到厚鐵箔中并仔細冷卻以產(chǎn)生高質(zhì)量的 kish 石墨片。這些晶體的尺寸從毫米到 5-6 毫米不等，具有高純度（99.99% 或更高）和結(jié)晶度（的 vdW 結(jié)構(gòu)，與 HOPG 相比易于剝落）。 

實驗室生長的 Kish 石墨的典型特征