海安縣石油科研儀器有限公司

巖心飽和度干餾儀,成巖模擬系統(tǒng)生排烴裝置

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無(wú)極調(diào)速巖心拋光機(jī)使用說(shuō)明

點(diǎn)擊次數(shù):2518 發(fā)布時(shí)間:2015-10-27

   其實(shí)對(duì)于無(wú)極調(diào)速巖心拋光機(jī)的操作與使用是比較很簡(jiǎn)單,只要嚴(yán)格按照設(shè)備的操作規(guī)程就可以避免很多不必要的麻煩,還能有效提升企業(yè)的生產(chǎn)效率,更可以很好的延長(zhǎng)無(wú)極調(diào)速巖心拋光機(jī)的使用壽命。
 
  無(wú)極調(diào)速巖心拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到zui大的拋光速率,以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響zui終觀察到的組織,即不會(huì)造成假組織。前者要求使用較粗的磨料,以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層,但拋光損傷層也較深;后者要求使用zui細(xì)的材料,使拋光損傷層較淺,但拋光速率低。解決這個(gè)矛盾的的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層,這一階段應(yīng)具有zui大的拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能?。黄浯问蔷珤?或稱(chēng)終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到zui小。
 
  無(wú)極調(diào)速巖心拋光機(jī)拋光時(shí),試樣磨面與拋光盤(pán)應(yīng)平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上,注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng),以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液,使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用,使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象;濕度太小時(shí),由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫,潤(rùn)滑作用減小,磨面失去光澤,甚至出現(xiàn)黑斑,輕合金則會(huì)拋傷表面。為了達(dá)到粗拋的目的,要求轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)速較低,不要超過(guò)500r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些,因?yàn)檫€要去掉變形層。粗拋后磨面光滑,但黯淡無(wú)光,在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕,有待精拋消除。精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤(pán)速度可適當(dāng)提高,拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡,在顯微鏡明視場(chǎng)條件下看不到劃痕,但在相襯照明條件下則仍可見(jiàn)到磨痕。
 
  無(wú)極調(diào)速巖心拋光在使用的基本流程,我們也應(yīng)該按照正確的使用流程來(lái)操作,這樣才能保證無(wú)極調(diào)速巖心拋光機(jī)的使用壽命。
 

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