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[供應(yīng)]掩膜版|保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測系統(tǒng) 返回列表頁
貨物所在地:上海上海市
產(chǎn)地:荷蘭
更新時間:2025-06-03 14:07:37
有效期:2025年6月3日 -- 2026年6月3日
已獲點(diǎn)擊:82
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Fastmicro 掩膜版|保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測系統(tǒng)(PDS)
掩膜版|保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測系統(tǒng)(PDS)為掩膜版、掩膜版保護(hù)膜以及基板(襯底)制造工藝,提供高通量的表面顆粒污染檢測服務(wù)。
該系統(tǒng)對粒徑大于 0.1µm 的顆粒具有高靈敏度,是一種高效且提供服務(wù)的選擇。它能以手動或自動的操作方式,以及較低的維護(hù)成本,取代傳統(tǒng)的顆粒檢測系統(tǒng)。
產(chǎn)品特點(diǎn):
高通量檢測:每小時可檢測 400 片晶圓(WPH)
數(shù)據(jù)輸出:根據(jù) ISO 14644-9 標(biāo)準(zhǔn),在用戶界面和 PDF 報告輸出 SCP 等級
正反兩面檢測:單次測量中完成正反兩面檢測(無需翻轉(zhuǎn))
檢測范圍:能夠檢測 ≥ 0.1µm 聚苯乙烯乳膠(PSL)等效顆粒(經(jīng) NIST 認(rèn)證)
生產(chǎn)過程中的一致性測量
快速: 能在數(shù)秒內(nèi)完成大面積成像
定量: 適用于生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)境中的質(zhì)量鑒定與監(jiān)測
操作簡便: 不受操作人員影響,自動化,潔凈抓取方式
精準(zhǔn): 高分辨率測量(數(shù)量、位置、尺寸)
一致性: 每次測量都保持客觀、穩(wěn)定
高通量: 能在工藝時間窗口內(nèi)得出結(jié)果
FM-PDS: 直接檢測表面顆粒
該系統(tǒng)可為晶圓制造工藝、下一代化合物半導(dǎo)體以及優(yōu)良封裝應(yīng) 用,提供高通量的表面顆粒污染檢測服務(wù)。
該系統(tǒng)對粒徑大于 0.1μm 的顆粒具有高靈敏度,是一種高 效且提供服務(wù)的選擇。
它能以手動或自動的操作方式,以及 較低的維護(hù)成本,取代傳統(tǒng)的顆粒檢測系統(tǒng)。
對于下一代半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用, PDS 系統(tǒng)具備的屬性:雙面同 時掃描(選配);
靜態(tài)視場掃描(在圖像采集過程中無需移動產(chǎn)品)。
多功能模塊化平臺
系統(tǒng)專為直接測量 DUV(深紫外)和 EUV(極紫外)掩膜版保 護(hù)膜、掩模版或其他類型基板表面的顆粒污染水平而研發(fā)。
?該系統(tǒng)可根據(jù)需要客戶需求進(jìn)行定制和擴(kuò)展。測量模塊也可為系 統(tǒng)集成商和原始設(shè)備制造商(OEM)提供貼牌服務(wù)
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