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TruPlasmaDC4020 (G2)脈沖等離子體電源
  • TruPlasmaDC4020 (G2)脈沖等離子體電源
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貨物所在地:廣東深圳市

更新時間:2025-06-16 09:03:17

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TruPlasmaDC4010 (G2)脈沖等離子體電源TruPlasma DC 4000 (G2) 系列專為困難材料的直流反應濺射而開發(fā)。以脈沖式直流電工作的該款發(fā)生器經(jīng)受住尤為嚴苛的 PVD (物理氣相沉積)和 PECVD (等離子體增強化學氣相沉積)工藝的考驗,這些工藝對涂層質量與生產(chǎn)效率均有*要求。緊湊型直流電源可在脈沖與偏壓模式下使用——亦即兩種設備集于同一外殼!

TruPlasmaDC4020 (G2)脈沖等離子體電源

可靠處理苛刻工藝

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列專為困難材料的直流反應濺射而開發(fā)。以脈沖式直流電工作的該款發(fā)生器經(jīng)受住尤為嚴苛的 PVD (物理氣相沉積)和 PECVD (等離子體增強化學氣相沉積)工藝的考驗,這些工藝對涂層質量與生產(chǎn)效率均有*要求。緊湊型直流電源可在脈沖與偏壓模式下使用——亦即兩種設備集于同一外殼!

出色的涂層質量和生產(chǎn)效率

數(shù)字化信號處理確保工藝穩(wěn)定并將受電弧限制的時間損失最小化。

即便工藝條件嚴苛,也能實現(xiàn)最佳結果

快速電弧處理與直流脈沖技術相結合,將基板損壞最小化。

輕松適配工藝

得益于寬泛的頻率范圍和可調反向電壓。

緊湊又堅固的結構

集成水冷裝置節(jié)省空間,減少維護工作。

QQ截圖20220531155403.png


TruPlasmaDC4020 (G2)脈沖等離子體電源

出色的涂層質量和生產(chǎn)效率

快速電弧處理與直流脈沖技術相結合使微滴率降低且表面缺陷減少。受電弧限制的工藝中斷降到最少,沉積速率顯著提高。

靈活適配工藝

可在寬泛的范圍內調整脈沖頻率,直流發(fā)生器還配備偏壓模式。借此可將同一臺設備用于眾多應用。精心設計的監(jiān)控工具支持您優(yōu)化工藝。



不同選項讓脈沖式直流電源以最佳方式適配您的應用。

并行與同步

多臺 TruPlasma DC 4000 (G2) 系列直流電源可同步運行。對于指向不同目標的多臺電源,該模式能夠實現(xiàn)電弧的同步識別。脈沖模式也可進行同步。




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