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等離子清洗機通過化學或物理作用對工件表面進行處理,實現(xiàn)分子水平的污染物去除(一般厚度為3~30nm),從而提高工件表面活性。被清除的污染物可能為有機物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。
等離子清洗機在LED封裝工藝中的應用
等離子清洗機是經濟有效且無環(huán)境污染的解決方案。針對這些不同污染物并根據(jù)基板及芯片材料的不同,等離子清洗機采用不同的清洗工藝可以得到理想的效果。
等離子清洗機在LED封裝中的應用大致分為以下幾個方面:
1、點銀膠前:基板上的污染物會導致銀膠呈圓球狀,不利于芯片粘貼,而且容易造成芯片手工刺片時損傷,使用等離子清洗機可以使工件表面粗糙度及親水性大大提高,有利于銀膠平鋪及芯片粘貼,同時可大大節(jié)省銀膠的使用量,降低成本。
2、引線鍵合前:芯片粘貼到基板上后,經過高溫固化,其上存在的污染物可能包含有微顆粒及氧化物等,這些污染物從物理和化學反應使引線與芯片及基板之間焊接不*或粘附性差,造成鍵合強度不夠。在引線鍵合前采用等離子清洗機處理,會顯著提高其表面活性,從而提高鍵合強度及鍵合引線的拉力均勻性。鍵合刀頭的壓力可以較低(有污染物時,鍵合頭要穿透污染物,需要較大的壓力),有些情況下,鍵合的溫度也可以降低,因而提高產量,降低成本。
3、LED封膠前:在LED注環(huán)氧膠過程中,污染物會導致氣泡的成泡率偏高,從而導致產品質量及使用壽命低下,所以,避免封膠過程中形成氣泡同樣是人們關注的問題。通過等離子清洗機處理后,芯片與基板會更加緊密的和膠體相結合,氣泡的形成將大大減少,同時也將顯著提高散熱率及光的出射率。通過以上幾點可以看出材料表面活化、氧化物及微顆粒污染物的去除可以通過材料表面鍵合引線的拉力強度及侵潤特性直接表現(xiàn)出來。
等離子清洗設備,等離子處理機原理是在真空狀態(tài)下,壓力越來越小,分子間間距越來越大,分子間力越來越小,利用射頻源產生的高壓交變電場將氧、氬、氫等工藝氣體震蕩成具有高反應活性或高能量的離子,然后與有機污染物及微顆粒污染物反應或碰撞形成揮發(fā)性物質,然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質清除出去,從而達到表面清潔活化的目的。等離子清洗機是清洗方法中*的剝離式清洗,其優(yōu)勢在于清洗后無廢液,最大特點是對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地處理,等離子清洗機可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結構的清洗。
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