低溫等離子體表面處理設(shè)備能使材料表面發(fā)生多種的物理、化學(xué)變化，或產(chǎn)生刻蝕而粗糙，或形成致密的交聯(lián)層，或引入含氧極性基團，使親水性、粘結(jié)性、可染色性、生物相容性及電性能分別得到改善。

等離子清洗機清洗去除硅膠片上元件表面的光敏有機資料制造的光刻膠。

等離子清洗機器針對材料表面進行清潔、蝕刻、涂層、聚合處理。

等離子清洗機去除光刻膠

等離子清洗機灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸點、消除靜電、介電質(zhì)刻蝕、有機污染去除、晶圓減壓等。使用等離子清洗機不僅去除光刻膠和其他有機物，而且活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤性。

Plasma等離子清洗機能夠有效的在高分子材料表面引入新的官能團或者改變表面的化學(xué)結(jié)構(gòu)，進而改善高分子材料的生物相容性

本公司不僅提供標準的等離子清洗機，且可根據(jù)用戶的需求進行不同的定制設(shè)計從而滿足客戶特定的生產(chǎn)環(huán)境和處理工藝需求。