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勻膠旋涂?jī)x在勻膠過程中可能會(huì)出現(xiàn)的問題?

閱讀:2168      發(fā)布時(shí)間:2023-5-28
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  勻膠旋涂?jī)x通過在片材保持器上產(chǎn)生負(fù)壓來吸收待旋涂在片材固定器上的基材,并且膠滴到基材表面上。離心力通過精確調(diào)節(jié)電機(jī)的轉(zhuǎn)速而改變。同時(shí),膠水流由滴膠裝置控制,以達(dá)到薄膜制備所需的厚度。此外,膜厚度還取決于環(huán)境因素,如旋涂時(shí)間、膠水粘度、殘余涂層溫度和濕度。勻膠旋涂?jī)x廣泛應(yīng)用于I砸EMS微加工,生物,材料等領(lǐng)域,它可以用來制備厚度小于10納米薄膜。也常應(yīng)用在約1-100微米厚光刻膠沉積層的光刻工藝中。在使用過程中勻膠工藝常見問題有:
  1、表面出現(xiàn)氣泡可能原因:滴膠時(shí)膠中帶有氣泡;噴嘴*端切囗有問題或帶刺問題
  2、四周呈現(xiàn)放射狀條紋可能原因:膠液噴射速度過高;設(shè)備排氣速度過高;膠涂覆前靜止時(shí)間過長(zhǎng);勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速或加速度設(shè)置過高;片子表片留有小顆粒膠中有顆粒
  3、中心出現(xiàn)漩渦圖案可能原因:設(shè)備排氣速度過高;噴膠時(shí)膠液偏離襯底中心;旋圖時(shí)間過長(zhǎng);加速度過高
  4、中心出現(xiàn)圓暈可能原因:不合適的托盤,噴嘴偏離襯底中心
  5、膠液未涂滿襯底可能原因:給膠量不足;不合適的勻膠加速度
  6、出現(xiàn)針孔現(xiàn)象可能原因:空氣中粉塵;光刻膠內(nèi)存在顆?;驓馀?;襯底上存在顆粒

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