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NL201,NL202,NL204--213nm納秒激光器

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產(chǎn)品型號

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所  在  地深圳市

更新時(shí)間:2025-08-28 10:28:52瀏覽次數(shù):56次

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應(yīng)用領(lǐng)域 化工,能源,電子/電池,電氣,綜合 組成要素 固體激光器產(chǎn)品及設(shè)備
Ekspla NL200系列NL201,NL202,NL204--213nm納秒激光器可以在kHz重復(fù)頻率下提供高脈沖能量。端部泵浦設(shè)計(jì)使Ekspla NL200激光器緊湊且易于集成到各種激光設(shè)備中,包括工業(yè)和研發(fā)設(shè)備。Ekspla納秒激光器NL200系列有三種型號NL201,NL202和NL204,諧波模式為532nm,355nm,266nm和213nm波長,可以很容易地連接到激光框架中。Eks

213nm,脈寬7-10ns,1kHz,0.2mJ的Ekspla NL200激光器  


Ekspla納秒激光器NL200系列可配備532nm,355nm,266nm213nm波長的諧波發(fā)生模塊。出色的能量穩(wěn)定性和廣泛的波長選擇使Ekspla NL200激光器成為光譜學(xué)、光聲成像和遙感應(yīng)用的好工具。機(jī)械穩(wěn)定和氣密密封的設(shè)計(jì)確保了213nm納秒激光器組件的可靠運(yùn)行和長壽命。再加之該213激光器短脈沖持續(xù)時(shí)間、可變重復(fù)頻率、外部TTL觸發(fā)和納秒二極管泵浦等特性,NL200系列納秒激光器對于脈沖激光沉積、透過面板的剝蝕或者對透明材料的內(nèi)雕等需要高脈沖能量的應(yīng)用擁有較高的性價(jià)比。

在保持恒定脈沖能量的同時(shí)連續(xù)調(diào)整重復(fù)頻率、光束指向和能量穩(wěn)定性使213高能量納秒激光器成為微加工、打標(biāo)、薄膜去除應(yīng)用的優(yōu)先選擇。213nm ns激光器NL201NL202NL204具有接近高斯平滑光束輪廓,具有低值M2<1.3和良好的可聚焦性,有利于LCDOLED顯示器修復(fù)等應(yīng)用。Ekspla納秒激光器緊湊輕便,使激光器易于運(yùn)輸,可有效節(jié)省寶貴的實(shí)驗(yàn)室空間。

Ekspla 213nm激光器1064nm基頻光可輸出高達(dá)4mJ的脈沖能量,266nm輸出0.6mJ。213激光器在213nm輸出脈沖能量0.2mJ。該213nm納秒激光器NL201的最高頻率可達(dá)2500Hz,NL202NL204的最高頻率為1000Hz。213高能量納秒激光器的脈寬為7-10ns,M2<1.3,典型光束直徑 0.7mm。

NL201,NL202,NL204--213nm納秒激光器

NL201,NL202,NL204--213nm納秒激光器的主要特點(diǎn):  

-在1064nm處高達(dá)4 mJ的脈沖能量(NL204

-高達(dá)2500Hz的可變重復(fù)頻率(NL201

-可配備532nm,355nm266nm213nm波長的諧波發(fā)生模塊

-<10ns脈沖持續(xù)時(shí)間

-電光Q開關(guān)

-風(fēng)冷

-外部TTL觸發(fā)

-使用REST API命令,通過鍵盤和/或在任何作系統(tǒng)上運(yùn)行的任何控制器進(jìn)行遠(yuǎn)程控制


NL201,NL202,NL204--213nm納秒激光器4的主要應(yīng)用:  

-材料加工

-LCD和OLED顯示屏維修

-打標(biāo)

-微加工

-雕刻

-激光沉積

-激光清洗

-燒蝕

-光譜學(xué)

-OPO泵浦

-遙感

 

 

Ekspla213nm ns激光器NL201,NL202NL204的規(guī)格:  

Ekspla納秒激光器的型號

NL201

NL202  

NL204  

脈沖能量:

@1064nm

@532nm

@355nm

@266nm

@213nm


0.9mJ

0.3mJ

0.2mJ

0.08mJ

0.04mJ


2mJ

0.9mJ

0.6mJ

0.2mJ

0.1mJ


4mJ  

2mJ  

1.3mJ  

0.6mJ  

0.2mJ  

脈沖能量穩(wěn)定性:

@1064nm

@532nm

@355nm

@266nm

@213nm


0.5%  

2.5%  

3.5%  

4%  

5%  

脈寬

7-10ns

功率漂移

±2%  

脈沖重復(fù)率

0-2500Hz

0-1000Hz

光束空間剖面

近場和遠(yuǎn)場均接近高斯分布

橢圓率

1064nm時(shí)為0.91.1  

M2  

<1.3

 光束發(fā)散角


3mrad  

光束直徑


0.7mm

光束指向穩(wěn)定性(RMS

10μrad  

光學(xué)抖動

0.5ns  

偏振

線性

Ekspla 213激光器的物理特性

激光頭尺寸

164×320×93mm  

電源尺寸

470×390×140mm  

連接線

3m

213nm ns激光器的操作要求

冷卻

風(fēng)冷

環(huán)境溫度

18-30 °C

相對濕度

20-80%(非冷凝)

電源要求

100–240VAC,單相,50/60 Hz  

功耗

< 600W

清潔度

不低于ISO9

NL201,NL202,NL204--213nm納秒激光器

Ekspla213nm納秒激光器遠(yuǎn)場中的典型光束強(qiáng)度分布

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