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高功率激光采樣器
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更新時(shí)間:2024-07-31 15:26:17

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高功率激光采樣器可以配合多種CMOS傳感器以及刀口式檢測探頭(機(jī)械式),無論是連續(xù)激光還是脈沖激光,都可以實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)測量。以色列DUMA為檢測大功率激光的需求提供了一系列大功率激光光束質(zhì)量分析儀,為高功率光束分析儀特別設(shè)計(jì)的風(fēng)冷采樣器采樣率可達(dá)到1.1×10-5,這款采樣器可以與大功率光束分析儀匹配,進(jìn)行高達(dá)4KW激光功率的實(shí)現(xiàn)測量。

以色列DUMA公司近期研制出一款高功率激光采樣器,通過壓縮空氣降溫的原理來實(shí)現(xiàn)冷卻。該采樣器可以提供1.1×10-5的采樣效率,相比于衰減片(ND)而言,效率更高,且適用于多種場合。該采樣器可以與現(xiàn)有光束質(zhì)量分析儀相匹配,出廠即完成裝配,可以滿足用戶對于高功率激光的檢測,對于連續(xù)激光,最高可承受4KW的功率。

       大功率激光光束質(zhì)量的測量一直是激光行業(yè)的一個(gè)難點(diǎn)和痛點(diǎn)。無論是CMOS/CCD傳感器還是刀口式檢測原理,都無法承受大功率激光的直接接收,因?yàn)?/span>CMOS傳感器或者CCD傳感器的靈敏度都很高,僅可以承受到微瓦到毫瓦的功率范圍,這使得大功率激光無法實(shí)現(xiàn)直接檢測,這會導(dǎo)致因激光功率過高而直接損壞傳感器,哪怕使用衰減片(ND)仍無法滿足,甚至需要配合多個(gè)衰減片進(jìn)行一個(gè)整體組合后才可使用,這會使得激光整體模式受到不可估計(jì)的影響。

我司為用戶提供兩種系列光束質(zhì)量分析儀,LAMM2-Beam,其中LAM可用于檢測工作面上的聚焦激光,其檢測原理為刀口式測量原理,僅可檢測連續(xù)激光(CW),M2-Beam的普通型號同樣采取刀口式測量原理。當(dāng)然,為了滿足用戶對于脈沖激光(Pulsed)的檢測需求,我們也提供CMOS傳感器版本(-U3型號)。

以上機(jī)型均可安裝高功率激光采樣器SAM-HP-M。需要注意的是,在測量大功率激光時(shí),連續(xù)曝光時(shí)間不能超過5s。并且高功率機(jī)型出廠后,風(fēng)冷采樣器處于已裝配狀態(tài),原則上講我們不提倡用戶將其拆卸,因?yàn)槠渲猩婕暗浇邮諏?zhǔn)和安裝工藝問題,這會導(dǎo)致拆卸后無法安裝的問題存在,基于更小的靈敏度,儀器哪怕裝載了風(fēng)冷采樣器,對于小功率激光仍具備一定的探測能力。

LAM大功率激光光束質(zhì)量分析儀產(chǎn)品規(guī)格參數(shù):

M2-Beam 大功率光束分析儀產(chǎn)品規(guī)格:

-輸入光束

-掃描裝配附件

-整機(jī)

大功率光束分析儀的核心部件——高功率激光采樣器規(guī)格參數(shù):

高功率光束分析儀訂購型號及描述:

LAM-BA: 7-blades, Si detector with high power attenuator and mounting adapter

LAM-U3: A camera for 350 –1310 nm with motorized built-in filter wheel with high power attenuator and mounting adaptor, a set of interchangeable filters,

M2Beam-Si – measurement device for silicon range (350 – 1100nm)

M2Beam-UV – measurement device for silicon range (190 – 1100nm)

M2Beam-IR – measurement device for silicon range (800 – 1800nm)

M2Beam-U3-VIS-NIR - measurement device for 350-1600 nm CMOS based

M2Beam-UV-NIR – Special – consult factory.

SAM3-HP-M – beam sampler for high power beams




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