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該儀器適用于多種介質(zhì)，半導(dǎo)體，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測(cè)量。界面友好，操作簡(jiǎn)便，用戶點(diǎn)擊幾下鼠標(biāo)就可以完成測(cè)量。
產(chǎn)品分類(lèi)品牌分類(lèi)
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
薄膜測(cè)厚儀
薄膜測(cè)厚儀
儀器介紹：
B7-10-SGC-10，適用于介質(zhì)，半導(dǎo)體，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測(cè)量。通過(guò)分析薄膜表面的反射光和薄膜與基底界面的反射光相干形成的反射譜，用軟件來(lái)擬合運(yùn)算，得到單層或多層膜系各層的厚度d，折射率n，消光系數(shù)k。該設(shè)備關(guān)鍵部件均為國(guó)外進(jìn)口，也可根據(jù)客戶需要*。
強(qiáng)大的軟件功能：
界面友好，操作簡(jiǎn)便，用戶點(diǎn)擊幾下鼠標(biāo)就可以完成測(cè)量。便捷快速的保存、讀取測(cè)量得到的反射譜數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大，可同時(shí)測(cè)量多達(dá)四層的薄膜的反射率數(shù)據(jù)。一次測(cè)量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學(xué)常數(shù)等數(shù)據(jù)。材料庫(kù)中包含了大量常規(guī)的材的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)。用戶可以非常方便地自行擴(kuò)充材料數(shù)據(jù)庫(kù)。
產(chǎn)品功能適用性：
該儀器適用于多種介質(zhì)，半導(dǎo)體，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測(cè)量。
典型的薄膜材料為：
SiO2、CaF2、MgF2、光刻膠、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亞胺、高分子膜。
典型的基底材料為：
SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、鋁丙烯酸、藍(lán)寶石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。
儀器具有開(kāi)放性設(shè)計(jì)，儀器的光纖探頭可很方便地取出，通過(guò)儀器附帶的光纖適配器（如圖所示）連接到帶C-mount的顯微鏡（顯微鏡需另配），就可以使本測(cè)量?jī)x適用于微區(qū)（>10μm，與顯微鏡放大率有關(guān)）薄膜厚度的測(cè)量。
技術(shù)指標(biāo)：
名稱 | 參數(shù) |
厚度范圍 | 20nm-50um（只測(cè)膜厚）， 100nm-10um（同時(shí)測(cè)量膜厚和光學(xué)常數(shù)n，k） 根據(jù)薄膜材料的種類(lèi)，其范圍有所不同。 |
準(zhǔn)確性 | <1nm或<0.5% |
重復(fù)性 | 0.1nm |
波長(zhǎng)范圍 | 380nm-1000nm |
可測(cè)層數(shù) | 1-4層 |
樣品尺寸 | 樣品鍍膜區(qū)直徑>1.2mm |
測(cè)量速度 | 5s-60s |
光斑直徑 | 1.2mm-10mm可調(diào) |
樣品臺(tái) | 290mm*160mm |
光源 | 長(zhǎng)壽命溴鎢燈（2000h） |
光纖 | 純石英寬光譜光纖 |
探測(cè)器 | 進(jìn)口光纖光譜儀 |
電源 | AC100V-240V，50HZ-60HZ |
重量 | 18kg |
尺寸 | 300mm*300mm*350mm |
