詳細(xì)介紹
產(chǎn)品介紹
在半導(dǎo)體清洗工藝中,控制 NMP 濃度至關(guān)重要,而基于折光原理的CYR-E-NMP-在線NMP濃度檢測儀正是該領(lǐng)域的主流選擇之一,能有效助力半導(dǎo)體清洗提升良率。
半導(dǎo)體清洗需要控制 NMP濃度。NMP是高效的光刻膠剝離劑和清洗溶劑,濃度直接影響其溶解能力。濃度過低會(huì)導(dǎo)致清洗困難,出現(xiàn)光刻膠殘留;濃度過高則可能造成過度刻蝕或損傷敏感結(jié)構(gòu)。此外,濃度波動(dòng)會(huì)使晶圓批次間的清洗效果出現(xiàn)差異,成為良率波動(dòng)的潛在因素。
CYR-E-NMP-在線NMP濃度檢測儀檢測NMP濃度具有諸多優(yōu)勢。它能夠?qū)崟r(shí)連續(xù)監(jiān)測,提供每秒更新的濃度數(shù)據(jù),及時(shí)反饋清洗槽或循環(huán)管路中 NMP 的實(shí)際狀態(tài),快速響應(yīng)異常情況,避免整批晶圓報(bào)廢?,F(xiàn)代在線折光儀在 NMP 的典型工作濃度范圍內(nèi)精度高,測量基于物理光學(xué)原理,不受溶液顏色、氣泡、懸浮物等干擾,穩(wěn)定性優(yōu)于電導(dǎo)率或 pH 法。儀表設(shè)計(jì)良好,無耗材,減少長期運(yùn)營成本和維護(hù)頻次。
在半導(dǎo)體清洗中,NMP 濃度在線分析儀有多個(gè)典型應(yīng)用點(diǎn),如光刻膠剝離槽主槽或循環(huán)管路中 NMP 工作液濃度的實(shí)時(shí)監(jiān)控與自動(dòng)補(bǔ)液,清洗 / 漂洗槽監(jiān)控 NMP 殘留或回收液濃度,NMP 回收系統(tǒng)監(jiān)測蒸餾提純后 NMP 的純度,以及廢液處理前監(jiān)控確保廢液濃度符合處理裝置要求。
產(chǎn)品參數(shù)
產(chǎn)品型號(hào) | CYR-E-NMP |
測量項(xiàng)目 | 折射率、溫度、濃度 |
測量范圍 | 0-100% |
分 辨 率 | 0.01% |
重復(fù)精度 | ± 0.02% |
測量溫度 | 0至130℃ |
溫度補(bǔ)償 | 0-130℃ |
關(guān)鍵材質(zhì) | 觸液面材質(zhì):超純PTFE或PFA;外殼:襯氟 |
棱鏡材質(zhì) | 光學(xué)級藍(lán)寶石 |
信號(hào)輸出 | DC4至20mA & RS485;2路開關(guān)量信號(hào)輸出 |
輸入電源 | DC 24V 或 AC 220V |
防護(hù)等級 | IP65 |
工藝壓力 | ≤1MPa(10Bar)更高壓力等級可定制 |
尺寸重量 | 傳感器:¢119 * 188mm / 約2.0KG |
安裝選項(xiàng) | 1/2英寸管路安裝 |
其他功能 | 多功能主機(jī)操作面板可查看濃度、溫度、折射率等數(shù)據(jù) 支持故障碼提示、一鍵校零、恢復(fù)出廠設(shè)置、曲線記錄及數(shù)據(jù)導(dǎo)出等功能 |