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韓國(guó)LS伺服驅(qū)動(dòng)器報(bào)警代碼

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應(yīng)用范圍：

　　1， 半導(dǎo)體制造工業(yè)
　　2， 設(shè)備應(yīng)用
　　　A. 曝光顯影設(shè)備 (涂膠，顯影)    光刻加工程序的主要設(shè)備及掌控涂層，曝光，顯影。
　　　B. 清洗、蝕刻設(shè)備               　　用于蝕刻，清洗，去膜設(shè)備。

　　　C. 清洗設(shè)備　　　　　　　　　適用于 物理沖洗清潔、顆粒清洗刷子、聲控及噴霧工藝。




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