Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統(tǒng)

Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統(tǒng)是一款超多功能的PVD（物理氣相沉積）系統(tǒng)，能夠生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業(yè)和學(xué)術(shù)研究。NL-FLEX可以容納各種類(lèi)型的基底，包括卷對(duì)卷、非平面和粉末涂層。它適用于廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，包括催化、光子學(xué)、能量存儲(chǔ)、傳感器和生命科學(xué)。這種模塊化的PVD沉積系統(tǒng)可以與分析工具集成，為您提供定制化的研究解決方案。

Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統(tǒng)是一款超多功能的PVD（物理氣相沉積）系統(tǒng)，能夠生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業(yè)和學(xué)術(shù)研究。NL-FLEX可以容納各種類(lèi)型的基底，包括卷對(duì)卷、非平面和粉末涂層。它適用于廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，包括催化、光子學(xué)、能量存儲(chǔ)、傳感器和生命科學(xué)。這種模塊化的PVD沉積系統(tǒng)可以與分析工具集成，為您提供定制化的研究解決方案。

主要特點(diǎn)：

·         通過(guò)結(jié)合納米顆粒和薄膜生成復(fù)雜材料。

·         使用NL-UHV技術(shù)生產(chǎn)無(wú)烴納米顆粒。

·         空間寬敞且易于進(jìn)入的真空腔，非常適合處理精細(xì)和復(fù)雜的基底。

·         可選擇向上或向下配置的源。

·         兼容第三方源。

·         提供旋轉(zhuǎn)、加熱和偏置選項(xiàng)，用于三維物體的涂層。

·         自動(dòng)化且由配方驅(qū)動(dòng)的軟件。

·        

基礎(chǔ)系統(tǒng)配置：

·         沉積腔尺寸：450 mm × 450 mm × 450 mm

·         基礎(chǔ)真空度：< 5×10??托

·         濺射方向：向下濺射

·         樣品臺(tái)：4英寸晶圓，20轉(zhuǎn)/分鐘旋轉(zhuǎn)

·         抽真空系統(tǒng)：700升/秒渦輪分子泵，配備7.2立方米/小時(shí)干式前級(jí)泵

·         閥門(mén)：手動(dòng)閥門(mén)、快門(mén)和線性驅(qū)動(dòng)裝置

·         控制軟件：配方驅(qū)動(dòng)的工藝控制、電源控制和數(shù)據(jù)記錄

·         原位監(jiān)測(cè)：石英晶體微量天平用于工藝監(jiān)測(cè)和終點(diǎn)檢測(cè)

·         源端口：最多可連接6個(gè)沉積源

·         源類(lèi)型：納米顆粒源、磁控濺射源、小型電子束蒸發(fā)源、熱舟源、K型離子源、射頻原子源

Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統(tǒng)可選配置：

·         可拆卸的沉積屏蔽裝置

·         向上配置的源幾何結(jié)構(gòu)

·         樣品臺(tái)選項(xiàng)：

o    直流偏置用于納米顆粒加速

o    射頻偏置用于樣品表面清潔

o    加熱至800℃

·         閥門(mén)、快門(mén)和線性驅(qū)動(dòng)裝置的自動(dòng)化選項(xiàng)

·         渦輪泵前的可調(diào)擋板，用于在較低氣體流量下增加濺射的動(dòng)態(tài)壓力范圍

·         單獨(dú)抽真空的裝卸鎖和傳輸臂