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Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)
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  • Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)

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貨物所在地: 浙江杭州市
更新時(shí)間: 2025-01-26 11:49:43
期: 2025年1月26日--2026年1月26日
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)是一個(gè)緊湊且靈活的PVD(物理氣相沉積)系統(tǒng),具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統(tǒng)有兩種型號(hào):375型(最多可容納五個(gè)源,基底直徑可達(dá)四英寸)和300型(最多可容納四個(gè)源,基底直徑可達(dá)兩英寸)。由于其體積相對(duì)較小,真空腔體的抽真空速度較快,周轉(zhuǎn)時(shí)間約為30分鐘。

詳細(xì)介紹

Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)是一個(gè)緊湊且靈活的PVD(物理氣相沉積)系統(tǒng),具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統(tǒng)有兩種型號(hào):375型(最多可容納五個(gè)源,基底直徑可達(dá)四英寸)和300型(最多可容納四個(gè)源,基底直徑可達(dá)兩英寸)。由于其體積相對(duì)較小,真空腔體的抽真空速度較快,周轉(zhuǎn)時(shí)間約為30分鐘。

Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)


Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)可兼容多種源,包括磁控濺射源、納米顆粒源、小型電子束源、熱舟源以及原子和離子源。系統(tǒng)可以配置為向上濺射或向下濺射模式。此外,還提供基底旋轉(zhuǎn)、偏壓以及最高可達(dá)800的加熱選項(xiàng)。

真空腔體在英國(guó)制造,采用高質(zhì)量的304不銹鋼材質(zhì),并配有輕質(zhì)鋁制門。它安裝在一個(gè)系統(tǒng)機(jī)架上,該機(jī)架包含控制系統(tǒng)、電源和真空泵。整個(gè)系統(tǒng)配備輪子以便移動(dòng),并在定位后可鎖定腳部以固定位置。

集成的PC和多功能Spectrum軟件提供了無(wú)縫的用戶體驗(yàn),使客戶能夠遠(yuǎn)程控制該系統(tǒng)并運(yùn)行復(fù)雜的工藝配方。

Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)


關(guān)鍵特性:

·         可用的源包括磁控濺射源、納米粒子源、小型電子束源、熱舟蒸發(fā)源、原子源和離子源。

·         提供向上濺射或向下濺射配置。

·         提供旋轉(zhuǎn)、偏壓以及高達(dá)800℃的加熱選項(xiàng)。

·         周轉(zhuǎn)時(shí)間約為45分鐘。

·         真空度可達(dá)5×10??托。

·         系統(tǒng)機(jī)架包含控制系統(tǒng)、電源和泵。

·         集成的個(gè)人電腦配備Spectrum軟件,可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化過(guò)程控制、復(fù)雜配方和數(shù)據(jù)記錄。

The Cube系統(tǒng)配置:

項(xiàng)目

Cube    300

Cube    375

沉積腔尺寸

300×300×300   mm

375×375×375   mm

基礎(chǔ)真空度

<1×10??

<5×10??

濺射方向

向下濺射/向上濺射

向下濺射/向上濺射

樣品臺(tái)

2英寸晶圓,20轉(zhuǎn)/分鐘旋轉(zhuǎn),射頻/直流偏壓和加熱至400℃

4英寸晶圓,20轉(zhuǎn)/分鐘旋轉(zhuǎn),射頻/直流偏壓和加熱至800℃

抽真空系統(tǒng)

80/秒渦輪分子泵配7.2立方米/小時(shí)干式前級(jí)泵

300/秒渦輪分子泵配7.2立方米/小時(shí)干式前級(jí)泵

閥門

手動(dòng)/自動(dòng)閥門、快門、直線驅(qū)動(dòng)和抽真空擋板閥

手動(dòng)/自動(dòng)閥門、快門、直線驅(qū)動(dòng)和抽真空擋板閥

控制軟件

配方驅(qū)動(dòng)過(guò)程、電源控制和數(shù)據(jù)記錄

配方驅(qū)動(dòng)過(guò)程、電源控制和數(shù)據(jù)記錄

原位監(jiān)測(cè)

石英晶體微量天平用于過(guò)程監(jiān)測(cè)和終點(diǎn)檢測(cè)

石英晶體微量天平用于過(guò)程監(jiān)測(cè)和終點(diǎn)檢測(cè)

源端口

最多4個(gè)沉積源

最多5個(gè)沉積源

源類型

納米粒子源、磁控濺射源、小型電子束蒸發(fā)源、熱舟蒸發(fā)源、K型離子源、射頻原子源

納米粒子源、磁控濺射源、小型電子束蒸發(fā)源、熱舟蒸發(fā)源、K型離子源、射頻原子源

涂層均勻性

±2%(樣品旋轉(zhuǎn)時(shí))



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