智能集菌儀適用范圍
適用范圍:
1. 制藥行業(yè)：純化水、注射用水、無(wú)菌制劑（大輸液、小針劑、粉劑、生物制品、血液制品、眼用制劑、保養(yǎng)液等）的無(wú)菌檢查和微生物限度檢查；
2. 醫(yī)療器械行業(yè)：純化水、注射用水、注射器、輸液器、輸血器、靜脈導(dǎo)管等的無(wú)菌檢查和微生物限度檢查；
3. 食品、飲料行業(yè)；
4. 環(huán)保行業(yè)等。 
 智能集菌儀適用范圍
產(chǎn)品特征: 
 
1. 新型泵頭：偏心張緊固定法，操作方便快捷。
2. 智能集菌儀的傳動(dòng)系統(tǒng)采用低轉(zhuǎn)速大力矩電機(jī)，直接驅(qū)動(dòng)，從而降低了輸入功率并有效降低了機(jī)身表面的溫度且噪音低于50db。
3. 蠕動(dòng)泵具有安全保護(hù)裝置，打開(kāi)泵頭，集菌儀自動(dòng)停止運(yùn)轉(zhuǎn)，有效避免操作失誤對(duì)人的傷害。
4. 整機(jī)采用L304不銹鋼一體化超小型設(shè)計(jì)，減少對(duì)操作臺(tái)的占用空間。
5. 轉(zhuǎn)速控制采用面貼式無(wú)極調(diào)速法控制，操作簡(jiǎn)單直接，有暫停記憶功能。
6. 腳踏開(kāi)關(guān)采用進(jìn)口航空防水端頭連接，超低電壓控制電器，不會(huì)存在漏電傷人的危險(xiǎn)，有自動(dòng)及半自動(dòng)可選。
7. 機(jī)殼表面經(jīng)鏡面處理，便于消毒和清潔，且美觀大方。
8. 排液槽有分體式和連機(jī)旋轉(zhuǎn)式可選。
9. 機(jī)身所有安裝口端經(jīng)過(guò)防水密封處理，有效的防止液體滲入機(jī)內(nèi)。
10. 可根據(jù)客戶(hù)需求，增加檢品回收功能，可自由拆裝回收支架，滿(mǎn)足昂貴檢品的回收和產(chǎn)品除菌的特殊需求。 
 
技術(shù)參數(shù): 
1. 型  號(hào) ：ZW-808A 
2. 電  源 ： 220V 50Hz
3. 功  率 ： 60W
4. 轉(zhuǎn)  速 ： 0-300rpm
5. 外形尺寸：260*260*180mm
6. 重  量：10kg
7. 懸架總高度：37cm
8. 機(jī)殼材料：L304不銹鋼材料
很多涉及原子層沉積技術(shù)(ALD)的人都知道，智能集菌儀選擇性原子層沉積是當(dāng)今熱議的話題。各類(lèi)論文、研討會(huì)和博文層出不窮，詳盡地解釋了各種可以達(dá)到選擇性生長(zhǎng)目的的新方法。智能集菌儀從某種意義上說(shuō)，選擇性ALD運(yùn)用了長(zhǎng)期困擾ALD使用者的效應(yīng)，即由于ALD的化學(xué)反應(yīng)特性，薄膜生長(zhǎng)的成核現(xiàn)象取決于基底表面。通常來(lái)說(shuō)，在ALD領(lǐng)域人們已經(jīng)在研究如何盡可能減小這種影響。例如，等離子體ALD一般會(huì)有可忽略不計(jì)的延遲，但對(duì)于選擇性ALD來(lái)說(shuō)，成核延遲現(xiàn)象卻被放大了。有意思的是，雖然等離子體ALD一般沒(méi)有成核延遲現(xiàn)象，但它仍然可被用于選擇性ALD。我在埃因霍溫的大學(xué)同事已登載了相關(guān)發(fā)現(xiàn)它的要點(diǎn)是在等離子體曝光之后再次重復(fù)應(yīng)用抑制劑，這個(gè)過(guò)程可用視頻中所示的三步ABC ALD方法操作。以下視頻中解釋了選擇性等離子體ALD技術(shù)的全新概那么問(wèn)題來(lái)了，人們會(huì)選擇哪種ALD設(shè)備來(lái)研究選擇性ALD呢。我相信我們系統(tǒng)中的一些功能會(huì)很有用，例如：◆ 可應(yīng)用多種化學(xué)前驅(qū)物。氣箱可容納多路氣體并由MFC進(jìn)行流量控制◆ 可應(yīng)用抑制劑分子(如在前驅(qū)物注入過(guò)程中通入NH3或CO)◆ 將氫基作為抑制劑：在前驅(qū)物注入前使用氫等離子體(或其他等離子體)來(lái)抑制特定表面的生長(zhǎng)

◆ 氟化物等離子體：將CFX或F作為抑制劑，在前驅(qū)物注入前使用此等離子體，或進(jìn)行選擇性ALD生長(zhǎng)時(shí)，即每隔幾個(gè)生長(zhǎng)周期就在同一個(gè)腔體內(nèi)進(jìn)行一次刻蝕的步驟(注意O2等離子體可刻蝕Ru，H2等離子體可刻蝕ZnO)。◆ 用于抑制生長(zhǎng)的自組裝單分子膜(SAMS)注入◆ 多腔體集成系統(tǒng)，比如與感應(yīng)耦合等離子體-化學(xué)氣相沉積(ICP-CVD)腔室(生長(zhǎng)非晶硅)、濺射(sputter)腔室或原子層刻蝕(ALE)腔室結(jié)合使用◆ 用于原表面改性或刻蝕的基底偏壓牛津儀器的設(shè)備可實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的控制效果，包括：◆ 通過(guò)MFC，快速ALD閥門(mén)和快速自動(dòng)壓力控制，可獲得可調(diào)的前驅(qū)物/氣體注入，以實(shí)現(xiàn)一面成核另一面不成核的現(xiàn)象。◆ 使用預(yù)真空室和渦輪增壓分子泵保持系統(tǒng)的的高真空度，以使抑制現(xiàn)象長(zhǎng)時(shí)間不受影響?！?使用等離子體可清潔腔體和恢復(fù)腔體氛圍。◆ 帶實(shí)時(shí)診斷功能的生長(zhǎng)監(jiān)控設(shè)備：橢圓偏正光譜測(cè)、質(zhì)譜分析法及發(fā)射光譜法基于選擇性ALD提出的與刻蝕相結(jié)合的方法再次讓我想到原子尺度工藝處理的問(wèn)題，我在之前發(fā)表的一篇博文中對(duì)此進(jìn)行了討論?？梢韵胂螅ㄟ^(guò)結(jié)合選擇性ALD及其他工藝，可以生長(zhǎng)出新的超材料(特異材料)和*結(jié)構(gòu)。例如，通過(guò)在選擇性曝光的銅中生長(zhǎng)石墨烯，或通過(guò)周期性刻蝕同一平面的沉積(例如局部選擇性ALD)，可有效地僅在結(jié)構(gòu)側(cè)邊生長(zhǎng)材料。因此不論是在普通等離子刻蝕機(jī)或帶基底偏壓特性的FlexAL，結(jié)合帶導(dǎo)向的離子曝光法也許會(huì)是個(gè)優(yōu)勢(shì)。總得來(lái)說(shuō)，我很期待能有令人驚喜的新發(fā)現(xiàn)，新結(jié)構(gòu)和新材料能在可控的方式下誕生。光在一般介質(zhì)中具有雙向傳輸?shù)幕ヒ仔?，而打破這種互易性，即實(shí)現(xiàn)對(duì)光傳輸方向的非互易性，在經(jīng)典和量子信息處理中具有重要意義。光環(huán)形器、隔離器、定向放大器等是典型的非互易器件。其中光環(huán)形器允許光以“環(huán)形”的方式傳輸，可用于光源保護(hù)、精密測(cè)量，這種功能還可實(shí)現(xiàn)經(jīng)典或量子計(jì)算或通訊中信號(hào)的雙向處理，有利于提高信道容量與降低功耗。定向放大器也已經(jīng)被證明在基于超導(dǎo)回路的量子計(jì)算中具有重要意義。常見(jiàn)的光學(xué)非互易器件主要利用磁光晶體的法拉第效應(yīng)，但在器件集成化方面卻面臨著挑戰(zhàn)，難點(diǎn)包括磁光材料與傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料不匹配、需要外加強(qiáng)磁場(chǎng)、在光頻范圍內(nèi)磁光材料具有很高的傳輸損耗等。因此全光控制的片上光環(huán)形器、隔離器以及定向放大器一直是研究的熱點(diǎn)。該科研團(tuán)隊(duì)在前期實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了回音壁模式微腔中腔光力的非互易特性的基礎(chǔ)上，利用單個(gè)光力微腔與雙波導(dǎo)耦合的體系，實(shí)現(xiàn)了多功能的光子器件，包括窄帶濾波器，具有非互易功能的四端口光環(huán)形器與定向放大器，并且這些功能模式可以通過(guò)改變控制光來(lái)實(shí)現(xiàn)任意切換。該器件結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，原理具有普適性，甚至可實(shí)現(xiàn)單光子水平的光環(huán)形器，同時(shí)可推廣到任一具有行波模式的光力學(xué)體系，包括微波超導(dǎo)器件和集成聲學(xué)器件。