淺析高溫電爐在ITO靶材燒結(jié)技術(shù)上的優(yōu)勢

高溫電爐、真空電爐在靶材燒結(jié)技術(shù)方面發(fā)揮了巨大作用，氣氛可調(diào)，電爐壓力能夠調(diào)，電爐控溫精度等等長處，國內(nèi)有的公司選用高本錢的熱等靜壓技術(shù)，該技術(shù)能夠強(qiáng)化壓制和燒結(jié)進(jìn)程，降低燒結(jié)溫度，避免晶粒增大，以取得*的物理力學(xué)性能，但存在制品出產(chǎn)本錢較高、 出產(chǎn)周期長，且產(chǎn)品很簡單開裂，密度低一級缺陷。

       有的選用氣氛燒結(jié)法，在燒結(jié)進(jìn)程中經(jīng)過對燒結(jié)氣氛的控制來取得高密度的ITO靶材。氣氛燒結(jié)法能大批量接連出產(chǎn)，本錢較熱壓法低，設(shè)備投入也少，但對ITO粉體要求較高，還要有適宜的氣氛燒結(jié)技術(shù)。

因?yàn)樾枨筝^高氣氛壓力，在高溫下具有一定的危險性，燒結(jié)本錢也較高。常壓燒結(jié)是其時日本ITO靶材燒結(jié)的干流技術(shù)，也是國內(nèi)目前所竭力的方向，一些公司正在進(jìn)行這方面的實(shí)驗(yàn)，還沒有公司投入實(shí)習(xí)出產(chǎn)。

整體來看，目前國內(nèi)ITO靶材出產(chǎn)通常都選用熱等靜壓或冷等靜壓+氣氛燒結(jié)的方法 ，產(chǎn)品質(zhì)量不高，未打破下游行業(yè)r FT—LCD的要求方針，產(chǎn)品只限于出產(chǎn)低端的 T N導(dǎo)電玻璃和有些STN產(chǎn)品。