箱式氣氛爐適用于金屬，納米，單晶硅，多晶硅，電池等的擴(kuò)散焊接，氣氛熱處理的加熱設(shè)備用于材料或化學(xué)實驗室，在氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品。

箱式氣氛爐以硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，能快速升降溫，采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門采用硅膠墊并通有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過流量計后由后膛進(jìn)出，有多處洗爐膛進(jìn)氣口、出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體。

箱式氣氛爐適用于金屬材料的擴(kuò)散焊接以及真空或保護(hù)氣氛下熱處理。還可用于材料試驗、合成、燒結(jié)等;陶瓷材料、粉體材料、金屬陶瓷的真空燒結(jié)。